共用設備検索結果
表示件数
FIB加工装置（JEM-9310FIB） (Focused Ion Beam systems)
- 設備ID
- NM-512
- 設置機関
- 物質・材料研究機構 (NIMS)
- 設備画像
- メーカー名
- 日本電子 (JEOL)
- 型番
- JEM-9310FIB
- 仕様・特徴
- ・FIB：加速電圧5~30 kV、最大電流10nA
・分解能：8nm (@30kV)
- 設備状況
- 稼働中
ピックアップシステム (Pick-up System)
- 設備ID
- NM-513
- 設置機関
- 物質・材料研究機構 (NIMS)
- 設備画像
- メーカー名
- ()
- 型番
- 仕様・特徴
- ・大気中（FIB外）でガラスプローブを使ってTEMグリッド上へ固定
- 設備状況
- 稼働中
FIB/SEM精密微細加工装置（Helios 650） (FIB/SEM microfabrication instrument)
- 設備ID
- NM-517
- 設置機関
- 物質・材料研究機構 (NIMS)
- 設備画像
- メーカー名
- 日本エフイー・アイ株式会社 (FEI Company Japan Ltd.)
- 型番
- Helios 650
- 仕様・特徴
- 1. SIM像分解能5nm（@30kV）、最大電流65nA
2. SEM像分解能1.5nm（@1kV）、最大電流26nA
3. E-beam: 350V～30 kV、I-Beam: : 500V～30 kV
4. 試料ステージ: XY150 mm、Z10 mm、T: -9°～+57°、R: 360°
5. Ptデポ
6. サンプルリフトアウトシステム
【特徴】
1.集束イオンビーム(FIB)加工が可能 2.走査型電子顕微鏡(SEM)観察が可能 3.カラム内で加工薄片をリフトアウト（マイクロサンプリング)可能
- 設備状況
- 稼働中
直交型高速加工観察分析装置 (High performance focused ion beam system （FIB-SEM))
- 設備ID
- NU-104
- 設置機関
- 名古屋大学
- 設備画像
- メーカー名
- 日立ハイテクノロジーズ (Hitachi High-Tech)
- 型番
- MI4000L
- 仕様・特徴
- FIB-SEM 直交配置
FIB, SEM, STEM, Ar Gun, EDS
FIB, SEM 最大加速電圧：30kV
- 設備状況
- 稼働中
バイオ/無機材料用高速FIB-SEMシステム (High performance focused ion beam system （FIB-SEM))
- 設備ID
- NU-105
- 設置機関
- 名古屋大学
- 設備画像
- メーカー名
- 日立ハイテクノロジーズ (Hitachi High-Tech)
- 型番
- ETHOS NX5000
- 仕様・特徴
- FIB-SEM
FIB, SEM, STEM, Ar Gun, EDS
FIB, SEM 最大加速電圧：30kV
- 設備状況
- 稼働中
微細構造解析3Dシステム JIB-PS500i FIB-SEM (JIB-PS500i FIB-SEM)
- 設備ID
- NU-107
- 設置機関
- 名古屋大学
- 設備画像
- メーカー名
- 日本電子 (JEOL)
- 型番
- JIB-PS500i FIB-SEM
- 仕様・特徴
- FIB (Focus Ion Beam)機能と電子顕微鏡のSTEM機能を併せ持つ装置
電子顕微鏡観察用に各種材料を薄片化加工する。
FIB装置で試料を切削しながらSEM像を撮影し、試料内部を履帯観察できる
- 設備状況
- 稼働中
複合ビーム３次元加工・観察装置 (FIB-SEM)
- 設備ID
- OS-005
- 設置機関
- 大阪大学
- 設備画像
- メーカー名
- サーモフィッシャーサイエンティフィック (Thermo Fisher Scientific)
- 型番
- Scios2
- 仕様・特徴
- 加速電圧200V～30kV、dual beam、EDS分析機能
- 設備状況
- 稼働中
高精細集束イオンビーム装置 (High definition focused ion beam system)
- 設備ID
- OS-101
- 設置機関
- 大阪大学
- 設備画像
- メーカー名
- カールツァイス (Carl Zeiss)
- 型番
- ORION NanoFab
- 仕様・特徴
- 【特徴】
イオン源にHeガスを採用し、最小ビーム径0.5nmφ の分解能を有する。
FIB：10nm以下の微細加工が可能。
ヘリウムイオン顕微鏡：中和銃装備のため導電性処理無しで絶縁体の観察が可能。生体試料の観察にも適する。
【仕様】
イオン源：He / Ne (希ガス)
最小ビーム径：0.5 nm (He)，1.9 nm (Ne)
加速電圧：10～40 kV
ET検出器：2次電子
電子中和銃（Flood gun）装備
GIS：Pt、SiO2、XeF2
試料サイズ： 45mmφ
- 設備状況
- 稼働中
SEM付集束イオンビーム装置 (Focused ion beam system with SEM)
- 設備ID
- OS-102
- 設置機関
- 大阪大学
- 設備画像
- メーカー名
- カールツァイス (Carl Zeiss)
- 型番
- Nvision 40D with NPVE
- 仕様・特徴
- 【特徴】
30kVのGa+イオンによるFIB加工及び加工時のSEM観察が可能。FIBによる気相蒸着によりPtおよびSiO2による配線の修復が可能。
【仕様】
ステージサイズ：max 8 inch
Pt銃、SiO2銃装備
FE-SEMユニット, 加速電圧：30kV
検出器：InLens, SE, Esb
FIBユニット, 加速電圧：30kV
最小ビーム径：4nm
- 設備状況
- 稼働中
複合ビーム加工観察装置 (Dual beam analysis system )
- 設備ID
- SH-007
- 設置機関
- 信州大学
- 設備画像
- メーカー名
- 日本電子 (JEOL)
- 型番
- JIB-4610F
- 仕様・特徴
- FE-SEM 加速電圧 0.1～30ｋV
FIB 分解能4nm 加速電圧 1～30kV
Cryoオプション付き ピックアップシステム付き
- 設備状況
- 稼働中