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三次元走査電子顕微鏡 (3D analyltical FIB-SEM)
- 設備ID
- KU-011
- 設置機関
- 九州大学
- 設備画像
- メーカー名
- サーモフィッシャーサイエンテ ィフィック (Thermo Fisher Scientific)
- 型番
- Scios DualBeam
- 仕様・特徴
- 3次元組織解析
- 設備状況
- 稼働中
デュアルビーム微細加工電子顕微鏡 (Dual beam FIB-SEM)
- 設備ID
- KU-012
- 設置機関
- 九州大学
- 設備画像
- メーカー名
- サーモフィッシャーサイエンテ ィフィック (Thermo Fisher Scientific)
- 型番
- Versa3D DualBeam
- 仕様・特徴
- 観察+FIB加工、マイクロサンプリング
- 設備状況
- 稼働中
キセノンプラズマ集束イオンビーム加工・走査電子顕微鏡複合機 (Analytical plasma FIB-SEM)
- 設備ID
- KU-013
- 設置機関
- 九州大学
- 設備画像
- メーカー名
- サーモフィッシャーサイエンテ ィフィック (Thermo Fisher Scientific)
- 型番
- Helios 5 Hydra DualBeam
- 仕様・特徴
- イオン源4種(Xe, Ar, O, N)、SIMS分析
- 設備状況
- 稼働中
イオンビーム・電子ビーム複合型精密加工分析装置 (Precise Sample Preparation and Analysis System Combining Ion Beam and Electron Beam)
- 設備ID
- KU-018
- 設置機関
- 九州大学
- 設備画像
- メーカー名
- サーモフィッシャーサイエンテ ィフィック (Thermo Fisher Scientific)
- 型番
- Helios 5 UX
- 仕様・特徴
- FIBによる電顕試料の調製、モノクロメータSEMによる形態観察、EBSDによる方位解析、自動試料作製
- 設備状況
- 稼働中
複合ビーム加工観察装置群 (Focused Ion Beam-Scanning Electron Microscopes)
- 設備ID
- NI-021
- 設置機関
- 名古屋工業大学
- 設備画像
- メーカー名
- 日本電子、マイクロサポート (JEOL, Micro Support Co.,Ltd)
- 型番
- JIB-4700F, AxisPro FC
- 仕様・特徴
- 1. FIB：加速電圧1～30kV、ビーム電流1pA ～90nA、倍率×50～×1,000,000
2.SEM：加速電圧1～30kV、倍率×10 ～ 1,000,000
3.最大試料サイズ：Φ30mm×高さ15mm
4.電動マイクロマニピュレーターシステム付設（AxisPro FC: TEM観察薄片のピックアップ用）
- 設備状況
- 稼働中
微細組織三次元マルチスケール解析装置 (Orthogonal FIB-SEM)
- 設備ID
- NM-302
- 設置機関
- 物質・材料研究機構 (NIMS)
- 設備画像
- メーカー名
- 日立ハイテク (Hitachi High-Tech)
- 型番
- SMF-1000
- 仕様・特徴
- 最高1nmピッチで制御可能で，加工と観察を繰り返すこと(シリアルセクショニング)で3D像再構築が可能．更にEBSDを併用した3D-EBSDやTEM試料作製も対応可能．
・SEM：ZEISS Gemini
・EDS：EDAX
・EBSD：EDAX TSL Hikari
・Ar-ion gun
・Depo. gas：Carbon
- 設備状況
- 稼働中
TEM試料自動作製FIB-SEM複合装置 (FIB-SEM combined apparatus for automatic preparation of TEM specimens)
- 設備ID
- NM-403
- 設置機関
- 物質・材料研究機構 (NIMS)
- 設備画像
- メーカー名
- 日立ハイテク (Hitachi High-Tech)
- 型番
- NX5000
- 仕様・特徴
- ・FIB: Ga液体金属イオン源、加速電圧0.5－30kV、分解能4nm (30kV)、最大ビーム電流100nA
・SEM: 冷陰極電界放射型電子銃、加速電圧0.1－30kV、分解能0.7nm (15kV)、最大ビーム電流10nA
・低加速Arイオンビーム：加速電圧0.5－2kV、最大ビーム電流20nA
- 設備状況
- 稼働中
デュアルビーム加工観察装置 (Dual Beam system)
- 設備ID
- NM-509
- 設置機関
- 物質・材料研究機構 (NIMS)
- 設備画像
- メーカー名
- 日立ハイテクノロジーズ (Hitachi High-Technologies)
- 型番
- NB5000
- 仕様・特徴
- ・FIB：加速電圧1~40 kV、最大電流50nA、倍率x600~
・SEM：加速電圧0.5~30kV、分解能1nm@15kV, 倍率x250~
・付属：マイクロサンプリング、STEM, EDS
- 設備状況
- 稼働中
FIB加工装置（JIB-4000） (Focused Ion Beam systems)
- 設備ID
- NM-510
- 設置機関
- 物質・材料研究機構 (NIMS)
- 設備画像
- メーカー名
- 日本電子 (JEOL)
- 型番
- JIB-4000
- 仕様・特徴
- ・FIB：加速電圧1~30 kV、最大電流60nA
・分解能：5nm (@30kV)
- 設備状況
- 稼働中
FIB加工装置（JEM-9320FIB） (Focused Ion Beam systems)
- 設備ID
- NM-511
- 設置機関
- 物質・材料研究機構 (NIMS)
- 設備画像
- メーカー名
- 日本電子 (JEOL)
- 型番
- JEM-9320FIB
- 仕様・特徴
- ・FIB：加速電圧5~30 kV、最大電流30nA
・分解能：6nm (@30kV)
- 設備状況
- 稼働中