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集束イオンビーム加工観察装置(FIB) (Focused Ion Beam System(FIB))

設備ID
AT-034
設置機関
産業技術総合研究所(AIST)
設備画像
集束イオンビーム加工観察装置(FIB)
メーカー名
日立ハイテクノロジーズ (Hitachi High-Tech)
型番
FB-2100
仕様・特徴
・型式:FB-2100
・試料サイズ: 18mmφ以下, 高さ10mm以下
・イオン源:ガリウム液体金属イオン源
・加速電圧:2kV, 5kV, 10kV~40 kV (低加速電圧対応)
・像分解能:6 nm (SIM)
・ビーム径:3µm, 1.3µm, 600 nm, 320 nm, 120 nm, 60 nm, 10 nm
・イオンビーム電流:0.1nA~68nA (大電流対応)
・デポジションガス:タングステンカルボニル
・マニュピレータシステム:シングルプローブ
・試料ステージ制御:5軸チルトステージ
・ステージ傾斜角度:最大45°
設備状況
稼働中

FIB-SEM (Focused Ion beam - Scanning Electron Microscope)

設備ID
BA-003
設置機関
筑波大学
設備画像
FIB-SEM
メーカー名
FEI (FEI)
型番
Helios NanoLab 600i
仕様・特徴
電子とイオンの2種のソースにより、TEM試料作製、イオン照射による直接加工をSEM観察をしながら実施できる。
加速電圧:1-30kV(電子ビーム)
0.5-30kV(Gaイオンビーム)
デポジション用ガス:C,Ptガス
分析機能:EDS
設備状況
稼働中

集束イオンビーム加工装置 (FIB)

設備ID
HK-105
設置機関
北海道大学
設備画像
集束イオンビーム加工装置
メーカー名
日本電子 (JEOL)
型番
JEM-9320FIB
仕様・特徴
・イオン加速電圧:5 ~ 30 kV
・倍率:150(50)~300,000
・真空系:ターボ分子ポンプ(TMP)、ロータリーポンプ(RP)
・チップオンホルダー
・バルクホルダー
・ピックアップ装置
・遠隔観察装置
設備状況
稼働中

集束イオンビーム加工・観察装置 (Focused Ion Beam and Scanning Electron Microscope system(FIB-SEM))

設備ID
HK-304
設置機関
北海道大学
設備画像
集束イオンビーム加工・観察装置
メーカー名
日本電子 (JEOL)
型番
JIB-4600F/HKD
仕様・特徴
加速電圧:1~30kV
分析機能:EDS、EBSD、3D観察
像分解能:5nm(30kV)
反射電子検出器装備
設備状況
稼働中

集束イオンビーム加工装置 (Focused Ion Beam system)

設備ID
HK-403
設置機関
北海道大学
設備画像
集束イオンビーム加工装置
メーカー名
日立ハイテク (Hitachi High-Tech)
型番
FB-2100
仕様・特徴
イオン加速電圧:5 ~ 30 kV
サイドエントリーステージ
バルクステージ
マイクロサンプリング機能
設備状況
稼働中

FIB-SEMデュアルビーム加工観察装置 (FIB-SEM Dual Beam System)

設備ID
IT-023
設置機関
国立大学法人 東京科学大学(旧:国立大学法人 東京工業大学)
設備画像
FIB-SEMデュアルビーム加工観察装置
メーカー名
日本電子 (JEOL)
型番
JIB-4501
仕様・特徴
FIB部分 Ga 液体金属イオン源、加速電圧 1-30kV,ビーム電流最大60nA以上 SEM部分 加速電圧0.3-30kV 分解能 3nm以下
設備状況
稼働中

集束イオンビーム走査電子顕微鏡 (Cross-Beam with Focused Ion Beam and FE-SEM )

設備ID
KT-206
設置機関
京都大学
設備画像
集束イオンビーム走査電子顕微鏡
メーカー名
エスアイアイ・ナノテクノロジー(株) (SII NanoTechnology Inc.)
型番
NVision40PI
仕様・特徴
高性能FIBとFE-SEMのクロスビーム装置(各種分析機能付)。
・基板サイズ:MAX Φ30mm
・検出器:SE×2(インレンズSE、チャンバーSE)、反射電子(EsB)
・ガスインジェクションシステム:C、W、SiOx
・マイクロプロービングシステム
・EDX/EBSDインテグレーションシステム:EDAX Pegasus
・ピコインデンターシステム
設備状況
稼働中

デュアルビーム走査電子顕微鏡 (Dual Beam FIB-SEM)

設備ID
KT-408
設置機関
京都大学
設備画像
デュアルビーム走査電子顕微鏡
メーカー名
日本電子 (JEOL)
型番
JIB-4700F
仕様・特徴
1.SEM装置(0.1~30kV)
2.FIB装置(1~30kV)
3.EDS検出器
4.EBSD検出器
5.クライオステージ
6.WとCのガス吹付装置
設備状況
稼働中

デュアルビームFIB-SEM加工装置 (Dual beam FIB-SEM)

設備ID
KU-005
設置機関
九州大学
設備画像
デュアルビームFIB-SEM加工装置
メーカー名
サーモフィッシャーサイエンテ ィフィック (Thermo Fisher Scientific)
型番
FEI Quanta 200 3D
仕様・特徴
観察+FIB加工、マイクロサンプリング
設備状況
稼働中

直交型FIB-SEM (3D analytical FIB-SEM)

設備ID
KU-006
設置機関
九州大学
設備画像
直交型FIB-SEM
メーカー名
日立ハイテクノロジーズ (Hitachi High-Tech Corporation)
型番
MI4000L
仕様・特徴
直交型FIB-SEM、3次元組織解析(3D-SEM/EDS)、EDS(150mm2 SDD検出器)による組成・状態分析
設備状況
稼働中
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