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バイオ/無機材料用高速FIB-SEMシステム (High performance focused ion beam system （FIB-SEM))
- 設備ID
- NU-105
- 設置機関
- 名古屋大学
- 設備画像
- メーカー名
- 日立ハイテクノロジーズ (Hitachi High-Tech)
- 型番
- ETHOS NX5000
- 仕様・特徴
- FIB-SEM
FIB, SEM, STEM, Ar Gun, EDS
FIB, SEM 最大加速電圧：30kV
- 設備状況
- 稼働中
試料作製装置群 (Specimen preparation apparatus group)
- 設備ID
- NU-106
- 設置機関
- 名古屋大学
- 設備画像
- メーカー名
- ニューメタルズエンドケミカルス E.A. Fischione Instruments TECNOORG LINDA製 ライカマイクロシステムズ 日本電子 メイワフォーシス 日本電子 メイワフォーシス他 ()
- 型番
- Model1040 Gatan Model IV5 Leica EM UC7 IB-09020CP DWS3242 JCM-6000Plus Neoc-Pro/P
- 仕様・特徴
- TEM/STEM/SEM観察のための試料作製に関する装置群：
NanoMill PIPSⅡ GentlMill クライオミクロトーム クロスセクションポリッシャー ダイヤモンドワイヤーソー 卓上SEM コータ類
- 設備状況
- 稼働中
微細構造解析3Dシステム JIB-PS500i FIB-SEM (JIB-PS500i FIB-SEM)
- 設備ID
- NU-107
- 設置機関
- 名古屋大学
- 設備画像
- メーカー名
- 日本電子 (JEOL)
- 型番
- JIB-PS500i FIB-SEM
- 仕様・特徴
- FIB (Focus Ion Beam)機能と電子顕微鏡のSTEM機能を併せ持つ装置
電子顕微鏡観察用に各種材料を薄片化加工する。
FIB装置で試料を切削しながらSEM像を撮影し、試料内部を履帯観察できる
- 設備状況
- 稼働中
SEM用断面試料作製装置 (Cross section polisher)
- 設備ID
- NU-253
- 設置機関
- 名古屋大学
- 設備画像
- メーカー名
- JEOL (JEOL)
- 型番
- SM-09010
- 仕様・特徴
- ・イオン加速電圧：2～6 kV
・イオンビーム径：500 μm（半値幅）
・最大搭載試料サイズ：幅11 mm × 長さ10 mm × 厚さ2 mm
・試料移動範囲：X軸：±3 mm，Y軸：±3 mm
- 設備状況
- 稼働中
複合ビーム３次元加工・観察装置 (FIB-SEM)
- 設備ID
- OS-005
- 設置機関
- 大阪大学
- 設備画像
- メーカー名
- サーモフィッシャーサイエンティフィック (Thermo Fisher Scientific)
- 型番
- Scios2
- 仕様・特徴
- 加速電圧200V～30kV、dual beam、EDS分析機能
- 設備状況
- 稼働中
高分子・生物系電子顕微鏡用試料作製装置群 (Bio-Science TEM Sample Preparation Machines)
- 設備ID
- OS-006
- 設置機関
- 大阪大学
- 設備画像
- メーカー名
- ライカマイクロシステムズ (Leica MICROSYSTEMS)
- 型番
- UC7
- 仕様・特徴
- 包埋樹脂重合装置、カーボン蒸着装置
- 設備状況
- 稼働中
材料系電子顕微鏡用試料作製装置群 (Material-Science TEM Sample Preparation Machines)
- 設備ID
- OS-007
- 設置機関
- 大阪大学
- 設備画像
- メーカー名
- アメテック株式会社 (AMETEK)
- 型番
- PIPS II
- 仕様・特徴
- 機械研摩装置、トライポッド、ディンプルグラインダー
- 設備状況
- 稼働中
高精細集束イオンビーム装置 (High definition focused ion beam system)
- 設備ID
- OS-101
- 設置機関
- 大阪大学
- 設備画像
- メーカー名
- カールツァイス (Carl Zeiss)
- 型番
- ORION NanoFab
- 仕様・特徴
- 【特徴】
イオン源にHeガスを採用し、最小ビーム径0.5nmφ の分解能を有する。
FIB：10nm以下の微細加工が可能。
ヘリウムイオン顕微鏡：中和銃装備のため導電性処理無しで絶縁体の観察が可能。生体試料の観察にも適する。
【仕様】
イオン源：He / Ne (希ガス)
最小ビーム径：0.5 nm (He)，1.9 nm (Ne)
加速電圧：10～40 kV
ET検出器：2次電子
電子中和銃（Flood gun）装備
GIS：Pt、SiO2、XeF2
試料サイズ： 45mmφ
- 設備状況
- 稼働中
SEM付集束イオンビーム装置 (Focused ion beam system with SEM)
- 設備ID
- OS-102
- 設置機関
- 大阪大学
- 設備画像
- メーカー名
- カールツァイス (Carl Zeiss)
- 型番
- Nvision 40D with NPVE
- 仕様・特徴
- 【特徴】
30kVのGa+イオンによるFIB加工及び加工時のSEM観察が可能。FIBによる気相蒸着によりPtおよびSiO2による配線の修復が可能。
【仕様】
ステージサイズ：max 4 inch
Pt銃、SiO2銃装備
FE-SEMユニット, 加速電圧：30kV
検出器：InLens, SE, Esb
FIBユニット, 加速電圧：30kV
最小ビーム径：4nm
- 設備状況
- 稼働中
複合ビーム加工観察装置 (Dual beam analysis system )
- 設備ID
- SH-007
- 設置機関
- 信州大学
- 設備画像
- メーカー名
- 日本電子 (JEOL)
- 型番
- JIB-4610F
- 仕様・特徴
- FE-SEM 加速電圧 0.1～30ｋV
FIB 分解能4nm 加速電圧 1～30kV
Cryoオプション付き ピックアップシステム付き
- 設備状況
- 稼働中