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デュアルビーム微細加工電子顕微鏡 (Dual beam FIB-SEM)
- 設備ID
- KU-012
- 設置機関
- 九州大学
- 設備画像
- メーカー名
- サーモフィッシャーサイエンテ ィフィック (Thermo Fisher Scientific)
- 型番
- Versa3D DualBeam
- 仕様・特徴
- 観察+FIB加工、マイクロサンプリング
- 設備状況
- 稼働中
キセノンプラズマ集束イオンビーム加工・走査電子顕微鏡複合機 (Analytical plasma FIB-SEM)
- 設備ID
- KU-013
- 設置機関
- 九州大学
- 設備画像
- メーカー名
- サーモフィッシャーサイエンテ ィフィック (Thermo Fisher Scientific)
- 型番
- Helios 5 Hydra DualBeam
- 仕様・特徴
- イオン源4種(Xe, Ar, O, N)、SIMS分析
- 設備状況
- 稼働中
Arイオン研磨装置群 (Sample milling / polishing facilities)
- 設備ID
- KU-014
- 設置機関
- 九州大学
- 設備画像
- メーカー名
- Gatan、Fischione、日本電子 (Gatan、Fischione、JEOL)
- 型番
- Gatan PIPSⅡ M 695、Fischione NanoMill Model1040、JEOL ION SLICER EM-09100IS
- 仕様・特徴
- 電子顕微鏡試料の調製
- 設備状況
- 稼働中
イオンビーム・電子ビーム複合型精密加工分析装置 (Precise Sample Preparation and Analysis System Combining Ion Beam and Electron Beam)
- 設備ID
- KU-018
- 設置機関
- 九州大学
- 設備画像
- メーカー名
- サーモフィッシャーサイエンテ ィフィック (Thermo Fisher Scientific)
- 型番
- Helios 5 UX
- 仕様・特徴
- FIBによる電顕試料の調製、モノクロメータSEMによる形態観察、EBSDによる方位解析、自動試料作製
- 設備状況
- 稼働中
クロスセクションポリッシャ (CROSS SECTION POLISHER)
- 設備ID
- KU-021
- 設置機関
- 九州大学
- 設備画像
- メーカー名
- 日本電子 (JEOL)
- 型番
- IB-19530CP
- 仕様・特徴
- ブロードArイオンビームによる断面加工・鏡面仕上げ加工（ハイスループット仕様）
低ダメージで大面積加工が可能、SEM観察やEBSD解析に最適
- 設備状況
- 稼働中
原子分解能分析電子顕微鏡群 (Atomic-Resolution Analytical Electron Microscope)
- 設備ID
- NI-001
- 設置機関
- 名古屋工業大学
- 設備画像
- メーカー名
- 日本電子/ガタン (JEOL/Gatan, Inc./Gatan, Inc.)
- 型番
- JEM-ARM200F/PIPS II/Model 656
- 仕様・特徴
- ●走査透過電子顕微鏡（JEM-ARM200F）
加速電圧：80kV・200kV，電子銃：冷陰極電界放出型
EDS、EELS、デジタルCCDカメラシステム付設
●イオンミリング装置（PIPS II）
高精度で無機化合物、金属、複合材料などをAr+イオンにより研磨できる。イオン銃加速電圧：0.1～7kV 冷却ステージあり
●ディンプルグラインダー（Model 656）
イオンミリングの前処理として固体板状試料に3mmΦ以下のくぼみをつけることができる。
- 設備状況
- 稼働中
複合ビーム加工観察装置群 (Focused Ion Beam-Scanning Electron Microscopes)
- 設備ID
- NI-021
- 設置機関
- 名古屋工業大学
- 設備画像
- メーカー名
- 日本電子、マイクロサポート (JEOL, Micro Support Co.,Ltd)
- 型番
- JIB-4700F, AxisPro FC
- 仕様・特徴
- 1. FIB：加速電圧1～30kV、ビーム電流1pA ～90nA、倍率×50～×1,000,000
2.SEM：加速電圧1～30kV、倍率×10 ～ 1,000,000
3.最大試料サイズ：Φ30mm×高さ15mm
4.電動マイクロマニピュレーターシステム付設（AxisPro FC: TEM観察薄片のピックアップ用）
- 設備状況
- 稼働中
微細組織三次元マルチスケール解析装置 (Orthogonal FIB-SEM)
- 設備ID
- NM-302
- 設置機関
- 物質・材料研究機構 (NIMS)
- 設備画像
- メーカー名
- 日立ハイテク (Hitachi High-Tech)
- 型番
- SMF-1000
- 仕様・特徴
- 最高1nmピッチで制御可能で，加工と観察を繰り返すこと(シリアルセクショニング)で3D像再構築が可能．更にEBSDを併用した3D-EBSDやTEM試料作製も対応可能．
・SEM：ZEISS Gemini
・EDS：EDAX
・EBSD：EDAX TSL Hikari
・Ar-ion gun
・Depo. gas：Carbon
- 設備状況
- 稼働中
TEM試料自動作製FIB-SEM複合装置 (FIB-SEM combined apparatus for automatic preparation of TEM specimens)
- 設備ID
- NM-403
- 設置機関
- 物質・材料研究機構 (NIMS)
- 設備画像
- メーカー名
- 日立ハイテク (Hitachi High-Tech)
- 型番
- NX5000
- 仕様・特徴
- ・FIB: Ga液体金属イオン源、加速電圧0.5－30kV、分解能4nm (30kV)、最大ビーム電流100nA
・SEM: 冷陰極電界放射型電子銃、加速電圧0.1－30kV、分解能0.7nm (15kV)、最大ビーム電流10nA
・低加速Arイオンビーム：加速電圧0.5－2kV、最大ビーム電流20nA
- 設備状況
- 稼働中
無損傷電子顕微鏡試料薄片化装置 (Damage-less TEM specimen milling apparatus)
- 設備ID
- NM-404
- 設置機関
- 物質・材料研究機構 (NIMS)
- 設備画像
- メーカー名
- フィッシオーネ (Fischione)
- 型番
- Model 1040 Nanomill
- 仕様・特徴
- ・イオン：アルゴン
・イオンエネルギー：50～2000eV 可変
・イオン電流：1mA/cm2
・イオンビームサイズ：2μm
- 設備状況
- 稼働中