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EBSD解析装置 (EBSD analyzer)
- 設備ID
- RO-522
- 設置機関
- 広島大学
- 設備画像
- メーカー名
- 日本電子 (JEOL Ltd.)
- 型番
- JSM-7100F
- 仕様・特徴
- 【技術代行専用】
EBSD測定により試料結晶面方位、結晶粒マッピング等の結晶構造解析を行う。
- 設備状況
- 稼働中
走査電子顕微鏡（SEM） (Field emission scanning electron microscope)
- 設備ID
- RO-527
- 設置機関
- 広島大学
- 設備画像
- メーカー名
- 日本電子 (JEOL Ltd.)
- 型番
- JSM-IT800
- 仕様・特徴
- ショットキｰ電界放出型電子銃，10V～30kV、
最高分解能0.5nm，
- 設備状況
- 稼働中
複合ビーム加工観察装置 (Dual beam analysis system )
- 設備ID
- SH-007
- 設置機関
- 信州大学
- 設備画像
- メーカー名
- 日本電子 (JEOL)
- 型番
- JIB-4610F
- 仕様・特徴
- FE-SEM 加速電圧 0.1～30ｋV
FIB 分解能4nm 加速電圧 1～30kV
Cryoオプション付き ピックアップシステム付き
- 設備状況
- 稼働中
電界放出型走査電子顕微鏡 (Field-Emission Scanning Electron Microscope)
- 設備ID
- SH-101
- 設置機関
- 信州大学
- 設備画像
- メーカー名
- 日立ハイテク (Hitachi High-Tech)
- 型番
- SU8000
- 仕様・特徴
- 加速電圧：0.5 ～ 30 kV
倍率：低倍率モード20 ～ 2,000倍
高倍率モード100 ～ 800,000倍
分析機能：EDX付
- 設備状況
- 稼働中
電界放出形走査電子顕微鏡（FE-SEM）(電子ビーム描画機能付属） (Field emission-type scanning electron microscope)
- 設備ID
- TT-014
- 設置機関
- 豊田工業大学
- 設備画像
- メーカー名
- 日本電子 (JEOL Ltd.)
- 型番
- JSM6500F
- 仕様・特徴
- 東京テクノロジーのBEAM DRAWを付加した電子線描画装置。最小描画線幅50nm
- 設備状況
- 稼働中
熱電子SEM (SEM)
- 設備ID
- TU-314
- 設置機関
- 東北大学
- 設備画像
- メーカー名
- 日立ハイテク (Hitachi High-Tech)
- 型番
- S3700N
- 仕様・特徴
- サンプルサイズ：小片～8インチ
ロードロックは4インチまで
EDX付、低真空モード付、光学画像ナビゲーション付
- 設備状況
- 稼働中
断面SEM (FE-SEM)
- 設備ID
- TU-315
- 設置機関
- 東北大学
- 設備画像
- メーカー名
- 日立ハイテク (Hitachi High-Tech)
- 型番
- S5000
- 仕様・特徴
- サンプルサイズ：小片専用
インレンズ式（磁性体導入不可）
- 設備状況
- 稼働中
JEOL FE-SEM (JEOL FE-SEM)
- 設備ID
- TU-316
- 設置機関
- 東北大学
- 設備画像
- メーカー名
- 日本電子 (JEOL)
- 型番
- JSM-6335F
- 仕様・特徴
- サンプルサイズ：小片～4インチ
EDX付
- 設備状況
- 稼働中
測長SEM (CD-SEM)
- 設備ID
- TU-317
- 設置機関
- 東北大学
- 設備画像
- メーカー名
- 日立ハイテク (Hitachi High-Tech)
- 型番
- CS4800
- 仕様・特徴
- 6、8インチは自動搬送、4インチ以下は手動搬送
計測再現性：1nm(3σ)
- 設備状況
- 稼働中
低加速走査電子顕微鏡 (Scanning Electron Microscope)
- 設備ID
- TU-505
- 設置機関
- 東北大学
- 設備画像
- メーカー名
- 日立ハイテクノロジーズ (Hitachi High-Tech)
- 型番
- SU-8000
- 仕様・特徴
- ・加速電圧 0.1 kV～30 kV FE電子銃
・二次電子像分解能 1.0/1.3 nm (15/1 kV)
・EDS分析、元素マッピング
- 設備状況
- 稼働中