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バイオ/無機材料用高速FIB-SEMシステム (High performance focused ion beam system (FIB-SEM))

設備ID
NU-105
設置機関
名古屋大学
設備画像
バイオ/無機材料用高速FIB-SEMシステム
メーカー名
日立ハイテクノロジーズ (Hitachi High-Tech)
型番
ETHOS NX5000
仕様・特徴
FIB-SEM
FIB, SEM, STEM, Ar Gun, EDS
FIB, SEM 最大加速電圧:30kV
設備状況
稼働中

微細構造解析3Dシステム JIB-PS500i FIB-SEM (JIB-PS500i FIB-SEM)

設備ID
NU-107
設置機関
名古屋大学
設備画像
微細構造解析3Dシステム JIB-PS500i FIB-SEM
メーカー名
日本電子 (JEOL)
型番
JIB-PS500i FIB-SEM
仕様・特徴
FIB (Focus Ion Beam)機能と電子顕微鏡のSTEM機能を併せ持つ装置
電子顕微鏡観察用に各種材料を薄片化加工する。
FIB装置で試料を切削しながらSEM像を撮影し、試料内部を履帯観察できる
設備状況
稼働中

微細構造解析3Dシステム GeminiSEM560 (GeminiSEM560)

設備ID
NU-108
設置機関
名古屋大学
設備画像
微細構造解析3Dシステム GeminiSEM560
メーカー名
Zeiss (Zeiss)
型番
GeminiSEM560
仕様・特徴
極低加速でのプローブ極極小化によるSEM高分解能の撮影が可能。
加速電圧:0.02 ~30kV
EDSによる元素分析装置付属
設備状況
稼働中

原子間力顕微鏡 (Atomic force microscope)

設備ID
NU-204
設置機関
名古屋大学
設備画像
原子間力顕微鏡
メーカー名
Bruker AXS (Bruker AXS)
型番
Dimension3100
仕様・特徴
・スキャン領域:XY方向 約90μm,Z方向 約6μm
・試料サイズ:最大150 mmφ-12 mmT
・測定モード AFM,MFM,EFM,LFM,表面電位顕微鏡,電流像
設備状況
稼働中

走査型電子顕微鏡 (Scanning electron microscope)

設備ID
NU-227
設置機関
名古屋大学
設備画像
走査型電子顕微鏡
メーカー名
日立ハイテクノロジーズ (Hitachi High-Tech)
型番
S5200
仕様・特徴
・加速電圧:0.5kV~30kV
・分解能:0.5nm(30kV)
・倍率:~2,000,000
・最大試料サイズ:5mm x 9.5mm
設備状況
稼働中

走査型電子顕微鏡 (Scanning electron microscope)

設備ID
NU-228
設置機関
名古屋大学
設備画像
走査型電子顕微鏡
メーカー名
日立ハイテクノロジーズ (Hitachi High-Tech)
型番
S4300
仕様・特徴
・加速電圧:0.5kV~15kV
・分解能:15nm(30kV)
・倍率:~500,000
・最大試料サイズ:直径100 mm
設備状況
稼働中

高精度電子線描画装置 (Scanning electron microscope with add-on lithography system )

設備ID
NU-249
設置機関
名古屋大学
設備画像
高精度電子線描画装置
メーカー名
日本電子 サンユー電子 (JEOL Sanyu Electron)
型番
JSM-7000FK SPG-724
仕様・特徴
・分解能:1.2 nm(30kV)
・倍率:×10~×1,000,000
・試料室:最大200 mm
・描画方式:ラスタースキャン方式/ブロックスキャン方式
・描画フィールド:50 µm□/100 µm□/200 µm□/500 µm□(ラスタースキャン),2,500 µm□,1ブロック=2.5 µm□(ブロックスキャン)
設備状況
稼働中

高分解能走査型電子顕微鏡 (High resolutiion scanning electron microscopy)

設備ID
NU-263
設置機関
名古屋大学
設備画像
高分解能走査型電子顕微鏡
メーカー名
日本電子 (JEOL)
型番
JSM-IT800
仕様・特徴
・加速電圧:0.01kV~30kV
・ステージバイアス電圧:0〜-5kV
・分解能:0.5nm(15kV),0.7nm(1kV)
・倍率:~2,000,000
・最大試料サイズ:170mmφ x 45mm
・EDS分析元素範囲:Be〜Cf
設備状況
稼働中

原子間力顕微鏡 (Atomic force microscope)

設備ID
NU-264
設置機関
名古屋大学
設備画像
原子間力顕微鏡
メーカー名
パーク・システムズ (Park Systems)
型番
NX20
仕様・特徴
・スキャン領域:XY方向100µm,Z方向15µm
・試料サイズ:最大200mmφ-20mmt
・測定モード AFM,MFM,EFM,LFM,FMM,C-AFM,ナノリソグラフィ
設備状況
稼働中

SEM付集束イオンビーム装置 (Focused ion beam system with SEM)

設備ID
OS-102
設置機関
大阪大学
設備画像
SEM付集束イオンビーム装置
メーカー名
カールツァイス (Carl Zeiss)
型番
Nvision 40D with NPVE
仕様・特徴
【特徴】
30kVのGa+イオンによるFIB加工及び加工時のSEM観察が可能。FIBによる気相蒸着によりPtおよびSiO2による配線の修復が可能。
【仕様】
ステージサイズ:max 4 inch
Pt銃、SiO2銃装備
FE-SEMユニット, 加速電圧:30kV
検出器:InLens, SE, Esb
FIBユニット, 加速電圧:30kV
最小ビーム径:4nm
設備状況
稼働中
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