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電界放出形走査電子顕微鏡（JSM-6500F） (Field Emission Scanning Electron Microscope (JSM-6500F))
- 設備ID
- NM-231
- 設置機関
- 物質・材料研究機構 (NIMS)
- 設備画像
- メーカー名
- 日本電子 (JEOL)
- 型番
- JSM-6500F
- 仕様・特徴
- ・電界放出形電子銃
・加速電圧：0.5～30 kV
・二次電子像分解能：1.5 nm（加速電圧15 kV）、 5.0 nm（加速電圧1 kV）
・倍率：10～50万倍
・最大試料サイズ：φ100 mm
・反射電子検出器搭載
・EDS付属（JED-2300）
エネルギー分解能：133 eV以下
検出可能元素：B～U
- 設備状況
- 稼働中
走査電子顕微鏡（JSM-6510） (Scanning Electron Microscope（JSM-6510）)
- 設備ID
- NM-232
- 設置機関
- 物質・材料研究機構 (NIMS)
- 設備画像
- メーカー名
- 日本電子 (JEOL)
- 型番
- JSM-6510
- 仕様・特徴
- ・Wフィラメント電子銃
・加速電圧：0.5～30 kV
・二次電子分解能：3.0 nm（加速電圧30 kV）、 8.0 nm (加速電圧3 kV）、 15.0 nm（加速電圧1 kV）
・倍率：5～30万倍
・最大試料サイズ：φ150 mm
・操作ナビ画面にナビゲーション表示
・試料交換手順はフロー式で初心者でも簡単に試料交換可能
- 設備状況
- 稼働中
微細組織三次元マルチスケール解析装置 (Orthogonal FIB-SEM)
- 設備ID
- NM-302
- 設置機関
- 物質・材料研究機構 (NIMS)
- 設備画像
- メーカー名
- 日立ハイテク (Hitachi High-Tech)
- 型番
- SMF-1000
- 仕様・特徴
- 最高1nmピッチで制御可能で，加工と観察を繰り返すこと(シリアルセクショニング)で3D像再構築が可能．更にEBSDを併用した3D-EBSDやTEM試料作製も対応可能．
・SEM：ZEISS Gemini
・EDS：EDAX
・EBSD：EDAX TSL Hikari
・Ar-ion gun
・Depo. gas：Carbon
- 設備状況
- 稼働中
TEM試料自動作製FIB-SEM複合装置 (FIB-SEM combined apparatus for automatic preparation of TEM specimens)
- 設備ID
- NM-403
- 設置機関
- 物質・材料研究機構 (NIMS)
- 設備画像
- メーカー名
- 日立ハイテク (Hitachi High-Tech)
- 型番
- NX5000
- 仕様・特徴
- ・FIB: Ga液体金属イオン源、加速電圧0.5－30kV、分解能4nm (30kV)、最大ビーム電流100nA
・SEM: 冷陰極電界放射型電子銃、加速電圧0.1－30kV、分解能0.7nm (15kV)、最大ビーム電流10nA
・低加速Arイオンビーム：加速電圧0.5－2kV、最大ビーム電流20nA
- 設備状況
- 稼働中
デュアルビーム加工観察装置 (Dual Beam system)
- 設備ID
- NM-509
- 設置機関
- 物質・材料研究機構 (NIMS)
- 設備画像
- メーカー名
- 日立ハイテクノロジーズ (Hitachi High-Technologies)
- 型番
- NB5000
- 仕様・特徴
- ・FIB：加速電圧1~40 kV、最大電流50nA、倍率x600~
・SEM：加速電圧0.5~30kV、分解能1nm@15kV, 倍率x250~
・付属：マイクロサンプリング、STEM, EDS
- 設備状況
- 稼働中
FIB/SEM精密微細加工装置（Helios 650） (FIB/SEM microfabrication instrument)
- 設備ID
- NM-517
- 設置機関
- 物質・材料研究機構 (NIMS)
- 設備画像
- メーカー名
- 日本エフイー・アイ株式会社 (FEI Company Japan Ltd.)
- 型番
- Helios 650
- 仕様・特徴
- 1. SIM像分解能5nm（@30kV）、最大電流65nA
2. SEM像分解能1.5nm（@1kV）、最大電流26nA
3. E-beam: 350V～30 kV、I-Beam: : 500V～30 kV
4. 試料ステージ: XY150 mm、Z10 mm、T: -9°～+57°、R: 360°
5. Ptデポ
6. サンプルリフトアウトシステム
【特徴】
1.集束イオンビーム(FIB)加工が可能 2.走査型電子顕微鏡(SEM)観察が可能 3.カラム内で加工薄片をリフトアウト（マイクロサンプリング)可能
- 設備状況
- 稼働中
FE-SEM [S-4800] (FE-SEM [S-4800])
- 設備ID
- NM-621
- 設置機関
- 物質・材料研究機構 (NIMS)
- 設備画像
![FE-SEM [S-4800]](data/facility_item/NM-621.jpg)
- メーカー名
- 日立ハイテク (Hitachi High-Tech)
- 型番
- S-4800
- 仕様・特徴
- ・用途：ナノ加工・構造・材料の観察・計測
・電子銃：ZrO/W 電界放射型
・加速電圧：0.1-30kV
・2次電子像分解能：1.0nm （ノーマル：15kV），1.4nm （リターディング：1.0kV）
・試料ステージ：5軸モーター駆動
・最大試料サイズ：φ6inch
・その他：各種試料ホルダー装備
- 設備状況
- 稼働中
走査型プローブ顕微鏡 [Jupiter XR] (SPM [Jupiter XR])
- 設備ID
- NM-622
- 設置機関
- 物質・材料研究機構 (NIMS)
- 設備画像
![走査型プローブ顕微鏡 [Jupiter XR]](data/facility_item/NM-622.jpg)
- メーカー名
- オックスフォード・インストゥルメンツ (Oxford Instruments)
- 型番
- Jupiter XR
- 仕様・特徴
- ・用途：ナノ構造の計測
・評価・測定モード：形状測定、メカニカル測定、電気測定、磁気測定、等
・走査範囲：90um
・ステージ可動範囲：200mm角
・最大試料サイズ：φ8inch
- 設備状況
- 稼働中
FE-SEM+EDX [S-4800] (FE-SEM+EDX [S-4800])
- 設備ID
- NM-647
- 設置機関
- 物質・材料研究機構 (NIMS)
- 設備画像
![FE-SEM+EDX [S-4800]](data/facility_item/1687416823_11.jpg)
- メーカー名
- 株式会社日立ハイテク (Hitachi High-Tech Corporation)
- 型番
- S-4800
- 仕様・特徴
- ・加速電圧:0.5～30kV ,
・最大倍率:800k
・検出器:SE/BSE
・分解能：1.0 nm (15 kV) , 1.3 nm (1 kV)
・最大試料サイズ：6インチ
・付加機能：EDX
- 設備状況
- 稼働中
FE-SEM+EDX [SU8000] (FE-SEM+EDX [SU8000])
- 設備ID
- NM-648
- 設置機関
- 物質・材料研究機構 (NIMS)
- 設備画像
![FE-SEM+EDX [SU8000]](data/facility_item/1687416882_11.jpg)
- メーカー名
- 株式会社日立ハイテク (Hitachi High-Tech Corporation)
- 型番
- SU8000
- 仕様・特徴
- ・加速電圧: 0.5～30kV ,
・最大倍率:800k
・検出器:SE/BSE
・分解能：1.0 nm (15 kV) , 1.3 nm (1 kV)
・最大試料サイズ：4インチ
・付加機能：EDX
- 設備状況
- 稼働中