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走査電子顕微鏡装置群 (Scanning electron microscope system)
- 設備ID
- KU-511
- 設置機関
- 九州大学
- 設備画像
- メーカー名
- 日立ハイテクノロジーズキーエンス (Hitachi High-TechKEYENCE)
- 型番
- SU9000、VE-8800
- 仕様・特徴
- 【超高分解能走査電子顕微鏡装置：SU9000】
・SEM(空間分解能0.4nm)とSTEM(空間分解能0.34nm)の高分解能同視野観察
・30kV以下の低加速観察
・コールドFE電子銃
・EDSによる高解像度元素マッピング
・含水サンプルの凍結観察個体表面における原子の分布を高分解能マッッピング
【3次元SEM画像測定解析システムVE-8800 KEYENCE】
・加速電圧0.5-20kV
・さまざまな有機／無機／複合材料表面構造解析低加速電圧観察可能(0.5 kV)
・非導電性試料でも非蒸着で観察可能
- 設備状況
- 稼働中
低真空分析走査電子顕微鏡 (Low vacuum analysis scanning electron microscope)
- 設備ID
- MS-202
- 設置機関
- 自然科学研究機構 分子科学研究所
- 設備画像
- メーカー名
- 日立ハイテクノロジーズ (Hitachi High-Tech)
- 型番
- SU6600
- 仕様・特徴
- ショットキー形電子銃
空間分解能1.2nm(30kV)、3.0nm(30kV)
低真空機能（10～300Pa）
EDS（EDX）（BrukerAXS社製 FQ5060/XFlash6）
- 設備状況
- 稼働中
走査プローブ顕微鏡 (Scanning probe microscope)
- 設備ID
- MS-204
- 設置機関
- 自然科学研究機構 分子科学研究所
- 設備画像
- メーカー名
- Bruker (Bruker)
- 型番
- Dimension XR Icon NanoEDimension XR Icon NanoEC
- 仕様・特徴
- 形状測定、機械特性測定、電気特性測定、電気化学
大気非暴露ボックス、環境制御ユニット(-35℃～250℃、湿度5%～50％）
- 設備状況
- 稼働中
精密形状測定・局所磁気測定・局所電気特性評価装置 (Scanning Probe Microscope for Morphological, Magnetic and Electrical Characterization)
- 設備ID
- NI-017
- 設置機関
- 名古屋工業大学
- 設備画像
- メーカー名
- 日本電子 (JEOL)
- 型番
- JSPM-5200TM
- 仕様・特徴
- 分解能：原子分解能。カーボンナノファイバー(CNF)探針によるソフトマテリアル低損傷観察可能。
測定モード：形状、電気特性、磁気特性測定。
- 設備状況
- 稼働中
走査電子顕微鏡 (Scanning Electron Microscope)
- 設備ID
- NI-019
- 設置機関
- 名古屋工業大学
- 設備画像
- メーカー名
- 日立ハイテク (Hitachi High-Tech Science Corporation)
- 型番
- S-4700
- 仕様・特徴
- FE-SEM、100倍～500K倍観察、EDX分析装置付属
- 設備状況
- 稼働中
複合ビーム加工観察装置群 (Focused Ion Beam-Scanning Electron Microscopes)
- 設備ID
- NI-021
- 設置機関
- 名古屋工業大学
- 設備画像
- メーカー名
- 日本電子、マイクロサポート (JEOL, Micro Support Co.,Ltd)
- 型番
- JIB-4700F, AxisPro FC
- 仕様・特徴
- 1. FIB：加速電圧1～30kV、ビーム電流1pA ～90nA、倍率×50～×1,000,000
2.SEM：加速電圧1～30kV、倍率×10 ～ 1,000,000
3.最大試料サイズ：Φ30mm×高さ15mm
4.電動マイクロマニピュレーターシステム付設（AxisPro FC: TEM観察薄片のピックアップ用）
- 設備状況
- 稼働中
液中原子間力顕微鏡 (Atomic force microscope (AFM) in liquid)
- 設備ID
- NM-005
- 設置機関
- 物質・材料研究機構 (NIMS)
- 設備画像
- メーカー名
- ブルカー (Bruker)
- 型番
- NanoWizard 4 XP
- 仕様・特徴
- 【AFM測定】
・液中観察：可
・走査範囲：水平100µm、垂直15µm
・動作モード：コンタクトモード、タッピングモード、フォースカーブマッピングモード、粘弾性測定、MFM観察
【直上顕微鏡】
・観察倍率：10倍
【倒立顕微鏡】
・観察法：明視野、位相差、蛍光
・対物レンズ：10倍、40倍
【その他】
・温度制御：室温＋60℃まで
- 設備状況
- 稼働中
卓上走査型電子顕微鏡装置群 (Tabletop scanning electron microscope (SEM))
- 設備ID
- NM-006
- 設置機関
- 物質・材料研究機構 (NIMS)
- 設備画像
- メーカー名
- 日立ハイテク (Hitachi High-Tech)
- 型番
- Miniscope TM4000PlusII Miniscope TM3000
- 仕様・特徴
- 【TM4000PlusII】
・倍率：10倍~10万倍
・加速電圧 : 5 kV、10 kV、15 kV、20 kV
・画像信号 : 反射電子, 二次電子
・真空モード：導電体（反射電子のみ）、標準、帯電軽減
・EDX：あり
【TM3000】
・倍率：15倍～3万倍
・加速電圧 : 5 kV、15 kV
・画像信号 : 反射電子のみ
・観察モード：通常、帯電軽減
・EDX：あり
- 設備状況
- 稼働中
ショットキー電界放出型走査電子顕微鏡（JSM-7001F） (Schottky FE-SEM (JSM-7001F))
- 設備ID
- NM-226
- 設置機関
- 物質・材料研究機構 (NIMS)
- 設備画像
- メーカー名
- 日本電子 (JEOL)
- 型番
- JSM-7001F
- 仕様・特徴
- ・加速電圧：0.5～30 kV
・二次電子像分解能：1.2 nm （加速電圧30 kV）、3.0 nm （加速電圧1 kV）
・倍率：10～1百万倍
・最大試料サイズ：φ100 mm
・反射電子検出器搭載
・加熱ステージ（最高1000℃）
・EDS付属（JED-2300）
・EBSD：TSL OIM
・格子歪み測定プログラムCrossCourt Ver.3、Ver.4+
- 設備状況
- 稼働中
電界放出形走査電子顕微鏡（SU8000） (FE-SEM (SU-8000))
- 設備ID
- NM-227
- 設置機関
- 物質・材料研究機構 (NIMS)
- 設備画像
- メーカー名
- 日立ハイテク (Hitachi High-Tech)
- 型番
- SU-8000
- 仕様・特徴
- ・対物レンズ：セミインレンズ型
・加速電圧：0.5～30 kV
・二次電子像分解能：1.0 nm（加速電圧15 kV）、1.4 nm（リターディングモード：加速電圧1 kV）
・倍率：20～80万倍
・反射電子検出器搭載
・STEM（BF）検出器搭載
・EDS付属（Bluker FlatQUAD）
- 設備状況
- 稼働中