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白色干渉搭載レーザ顕微鏡 (White light interference type Laser Microscope)
- 設備ID
- GA-014
- 設置機関
- 香川大学
- 設備画像
- メーカー名
- キーエンス (KEYENCE)
- 型番
- VK-X3100
- 仕様・特徴
- 倍率：×42～28,800
視野範囲：11?7398 μm
測定原理：レーザー共焦点、フォーカスバリエーション、白色干渉、分光干渉
レーザ光源波長：半導体レーザ404 nm
- 設備状況
- 稼働中
光干渉式膜厚測定装置 (Film thickness measurement instruments)
- 設備ID
- GA-016
- 設置機関
- 香川大学
- 設備画像
- メーカー名
- シータメトリシス (ThetaMetrisis)
- 型番
- FR-Scanner-AIO-Mic-XY200
- 仕様・特徴
- 測定膜厚範囲（SiO2）：10nm – 80μm（10X）
測定精度：0.2% or 2nm
測定波長範囲：380nm～1020nm
多層膜測定：4層まで可能
測定スポット径：10,25,50,100μm
光源：ハロゲンランプ
サンプルサイズ：Max.200 x 200 mm
光学フィルター：Y-48、R-60
その他：自動マッピング
- 設備状況
- 稼働中
成形装置群 (Forming equimpment for microfabrication)
- 設備ID
- GA-017
- 設置機関
- 香川大学
- 設備画像
- メーカー名
- Thinky, SPS, オーレーザー, Nikon, 他 (Thinky, SPS, Oh-Laser, Nikon, etc.)
- 型番
- AR-100 Polos Spin150i, Hajime CL1 Plus, MM-40/L3U, etc.
- 仕様・特徴
- 真空脱泡装置, 撹拌機, レーザー加工機,
スピンコーター( φ160mm, 12,000rpmまで), オーブン, ホットプレート, クリーンベンチ,
測定顕微鏡（反射光・透過光）, 倒立顕微鏡(蛍光・透過光), ゴム硬度計, 精密天秤, などの装置群
- 設備状況
- 稼働中
ダブル球面収差補正走査透過型電子顕微鏡 (Double Cs-corrected scanning transmission electron microscope)
- 設備ID
- HK-101
- 設置機関
- 北海道大学
- 設備画像
- メーカー名
- 日本FEI (FEI)
- 型番
- Titan3 G2 60-300
- 仕様・特徴
- ・加速電圧：60kV-300kV
・TEM分解能：0.07nm、STEM分解能：0.07nm
・X-FEG電子銃
・モノクロメーター搭載
・照射系球面収差補正器
・結像系球面収差補正器
・Super-X EDS検出器
・Gatan GIF QuantumER分光器
・分析試料ホルダー、トモグラフィー試料ホルダー
・遠隔観察
・遠隔オペレーション
- 設備状況
- 稼働中
マルチビーム超高圧電子顕微鏡 (Multi-Beam HVEM)
- 設備ID
- HK-103
- 設置機関
- 北海道大学
- 設備画像
- メーカー名
- 日本電子 (JEOL)
- 型番
- ARM-1300
- 仕様・特徴
- ・加速電圧：1250kV
・TEM分解能：0.12nmn
・LaB6熱電子銃
・300K、400Kイオン加速器
・ナノ秒パルスレーザー
・He-Cd CWレーザー
・フェムト秒レーザー
・CCD分光器
・遠隔観察
- 設備状況
- 稼働中
集束イオンビーム加工装置 (FIB)
- 設備ID
- HK-105
- 設置機関
- 北海道大学
- 設備画像
- メーカー名
- 日本電子 (JEOL)
- 型番
- JEM-9320FIB
- 仕様・特徴
- ・イオン加速電圧：5 ～ 30 kV
・倍率：150（50）～300,000
・真空系：ターボ分子ポンプ（TMP）、ロータリーポンプ（RP）
・チップオンホルダー
・バルクホルダー
・ピックアップ装置
・遠隔観察装置
- 設備状況
- 稼働中
量子・電子制御ナノマテリアル顕微物性測定装置 (Microscopic measuring equipment for physical properties on quantum/electronic controlled nano-materials)
- 設備ID
- HK-107
- 設置機関
- 北海道大学
- 設備画像
- メーカー名
- 日本電子 (JEOL)
- 型番
- JEM-ARM200F NEOARM
- 仕様・特徴
- ・加速電圧：80kV-200kV
・TEM分解能：0.1nm、STEM分解能：0.07nm
・冷陰極電界放出型電子銃
・照射系球面収差補正器
・結像系球面収差補正器
・HAADF-ABF同時取得機能
・EDS検出器
・加熱・バイアス印加TEM二軸傾斜ホルダー
- 設備状況
- 稼働中
X線光電子分光装置 (X-ray photoelectron spectroscope)
- 設備ID
- HK-201
- 設置機関
- 北海道大学
- 設備画像
- メーカー名
- 日本電子 (JEOL)
- 型番
- JPS-9200
- 仕様・特徴
- 標準X線源Mg/Alツインアノード
モノクロX線源
エネルギー分解能:0.65eV（モノクロX線源）
アルゴンイオンエッチング銃
分析径:30μmφ～3mmφ
最大20点まで連続分析可、分析エリア:20mm×50mm
トランスファーベッセル
画面共有システムによる遠隔立ち会い
- 設備状況
- 稼働中
環境セル対応透過電子顕微鏡 (Transmission electron microscope for Environmental cell (E-TEM))
- 設備ID
- HK-301
- 設置機関
- 北海道大学
- 設備画像
- メーカー名
- 日本電子 (JEOL)
- 型番
- JEM-2010
- 仕様・特徴
- 加速電圧：200kV
分析機能：EDS
環境セル加熱ホルダー装備
- 設備状況
- 稼働中
電界放出形走査電子顕微鏡 (Field-emission scanning electron microscope (FE-SEM))
- 設備ID
- HK-302
- 設置機関
- 北海道大学
- 設備画像
- メーカー名
- 日本電子 (JEOL)
- 型番
- JSM-6500F
- 仕様・特徴
- 加速電圧：1kV～30kV
分析機能：EBSD
- 設備状況
- 稼働中