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電子線顕微鏡観察用コーター (Coater for SEM analysis)
- 設備ID
- UT-714
- 設置機関
- 東京大学
- 設備画像
- メーカー名
- Gatan (Gatan)
- 型番
- PECS
- 仕様・特徴
- スパッタによりカーボン膜など観察用の薄膜を堆積できます
- 設備状況
- 稼働中
簡易電子顕微鏡 (Tabletop SEM)
- 設備ID
- UT-853
- 設置機関
- 東京大学
- 設備画像
- メーカー名
- 日立ハイテクノロジーズ (Hitachi High-Tech)
- 型番
- TM-3030Plus
- 仕様・特徴
- 卓上顕微鏡、EDX付
- 設備状況
- 稼働中
高精細電子顕微鏡 (Ultra-high Resolution Scanning Electron Microscope (SEM))
- 設備ID
- UT-855
- 設置機関
- 東京大学
- 設備画像
- メーカー名
- 日立ハイテクノロジーズ (Hitachi High-Tech)
- 型番
- Regulus 8230
- 仕様・特徴
- 分解能は1 kVで0.7 nm。最高倍率は200万倍の電界放出電子源を用いた高分解能走査型電子顕微鏡
- 設備状況
- 稼働中
電子顕微鏡 (Scanning Electron Microscope (SEM))
- 設備ID
- UT-858
- 設置機関
- 東京大学
- 設備画像
- メーカー名
- 日本電子㈱ (JEOL)
- 型番
- JSM-6610LV Oxford X-max50 + Energy 250
- 仕様・特徴
- エネルギー分散型X線分析装置(元素分析装置)付きの走査電子顕微鏡です。
- 設備状況
- 稼働中
小型原子間力顕微鏡 (Atomic Force Microscope (AFM))
- 設備ID
- UT-859
- 設置機関
- 東京大学
- 設備画像
- メーカー名
- 日立ハイテクサイエンス (Hitachi High-Tech Science)
- 型番
- SPA400+SPI4000
- 仕様・特徴
- 日立ハイテクサイエンス(旧SII社製)AFM。試料サイズ：φ35mm厚み10mm、スキャナー走査範囲：150μm×150μm（高さ5μm）、20μm×20μm（高さ1.5μm）、AFMモード、DFMモード
- 設備状況
- 稼働中
走査型プローブ顕微鏡 (Scanning Probe Microscope)
- 設備ID
- UT-861
- 設置機関
- 東京大学
- 設備画像
- メーカー名
- 日立ハイテクノロジーズ (Hitachi High-Tech)
- 型番
- L-traceⅡ
- 仕様・特徴
- □主な特長
・Z直進エラーの低減化
・S/N比向上と光ノイズ低減
・熱源抑制効果による低ドリフト化
□主な仕様
・分解能 面内0.5nm 垂直0.05nm
・試料サイズ 直径150mm厚さ12mmまで
・スキャン最大エリア90μmX90μm
□主な用途
・ 微細加工形状の評価
・ 薄膜の表面形状（粗さ）観察
- 設備状況
- 稼働中
大面積走査プローブ顕微鏡Dimension ICON (Large-Area Scanning Probe Microscope Dimension ICON)
- 設備ID
- UT-863
- 設置機関
- 東京大学
- 設備画像
- メーカー名
- ブルカージャパン (Bruker Japan)
- 型番
- Dimension ICON
- 仕様・特徴
- ステージ径φ210mm、駆動範囲150×180mm
スキャナ、光学顕微鏡範囲：90×90×10μm
測定モード：形状（コンタクト、タッピング、ピークフォースタッピング）機械特性等プローブ測定が可能（UT-861 L-TraceIIの後継機。近日中に完全置換予定）
- 設備状況
- 稼働中
電界放出型 走査電子顕微鏡 (Field-Emission Scanning Electron Microscope)
- 設備ID
- WS-011
- 設置機関
- 早稲田大学
- 設備画像
- メーカー名
- 株式会社 日立ハイテク (Hitachi High-Tech Corporation)
- 型番
- S-4800
- 仕様・特徴
- 試料サイズ最大20mm角
セミインレンズ方式による高分解能（～x600k）
EDAXによる元素分析
- 設備状況
- 稼働中
電界放出型 走査電子顕微鏡 (Field-Emission Scanning Electron Microscope)
- 設備ID
- WS-012
- 設置機関
- 早稲田大学
- 設備画像
- メーカー名
- 株式会社 日立ハイテク (Hitachi High-Tech Corporation)
- 型番
- SU8240
- 仕様・特徴
- 二次電子分解能
0.8nm （加速電圧15kV、WD＝4mm、倍率270kx）
1.1nm （照射電圧1kV、WD＝1.5mm、倍率200kx）
照射電圧 0.01～30kV
倍率 20～1,000,000倍
可動範囲:X 0～110mm,Y 0～80mm,R 360°
Z 1.5～40mm,T -5～70°
IM4000形イオンミリング装置付き（サンプルの断面ミリングと平面ミリング可能）
EDS System付き（元素分析可能）
- 設備状況
- 稼働中
電界放出型 走査電子顕微鏡 (Field-Emission Scanning Electron Microscope)
- 設備ID
- WS-013
- 設置機関
- 早稲田大学
- 設備画像
- メーカー名
- 株式会社 日立ハイテク (Hitachi High-Tech Corporation)
- 型番
- S5500
- 仕様・特徴
- 試料サイズ 平面5.0mmX9.5mmX3.5mmH
断面2.0mmX6.0mmX5.0mmH
倍率 ～×2M (高倍率モード)
- 設備状況
- 稼働中