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高分解能走査型電子顕微鏡 (Field Emission Scanning Electron Microscope)
- 設備ID
- UT-103
- 設置機関
- 東京大学
- 設備画像
- メーカー名
- 日本電子株式会社 (JEOL Ltd.)
- 型番
- JSM-7000F
- 仕様・特徴
- □ 主な仕様
（１）本体
加速電圧：0.5～30kV 0.5～2.9kVは10Vステップ可変
2.9～30kVは100Vステップ可変
二次電子分解能：1.2nm（加速電圧30kV），3.0nm (加速電圧1kV）
倍率：×10（WD40）～500,000
プローブ電流：10-12～2×10-7A
（２）結晶方位測定装置（株式会社TSLソリューションズ）
ソフトウェアー OIM Ver7.3.1
（３）高感度反射電子検出器
（４）走査透過電子検出器(STEM)
- 設備状況
- 稼働中
低真空走査型電子顕微鏡 (Low-vacuum Scannning Electron Microscope)
- 設備ID
- UT-104
- 設置機関
- 東京大学
- 設備画像
- メーカー名
- 日本電子株式会社 (JEOL Ltd.)
- 型番
- JSM-6510LA
- 仕様・特徴
- □ 主な仕様
（１）本体
加速電圧：0.5～30kV 0.5～3.0kVは100Vステップ可変 3～30kVは1kVステップ可変
二次電子分解能：
高真空モード：3.0nm（加速電圧30kV），15.0nm（加速電圧1kV）
低真空モード：4.0nm（加速電圧30kV）
倍率：×5～300,000
プローブ電流：1pA～1μA
試料室圧力調整範囲：10～270Pa
（２）エネルギー分散型X線分析装置（日本電子）
検出器：エクストラミニカップEDS検出器
エネルギー分解能129eV以下
検出可能元素 Be～U
分析時分解能：3.0nm（加速電圧15kV・プローブ電流15nA・WD10mm）
（３）反射電子検出器（Si P-N複合型半導体検出器）
- 設備状況
- 稼働中
高分解能走査型分析電子顕微鏡 (High-resolution scanning analytical electron microscope)
- 設備ID
- UT-105
- 設置機関
- 東京大学
- 設備画像
- メーカー名
- 日本電子株式会社 (JEOL Ltd.)
- 型番
- JSM-IT800SHL
- 仕様・特徴
- □ 主な仕様
（1）本体
加速電圧：0.01～30 kV
0.5～2.9 kVは10 Vステップ
二次電子分解能：1.0 nm（加速電圧15kV, 通常時）
0.5 nm（加速電圧15kV）
0.7 nm（加速電圧1kV）
0.9 nm（加速電圧500V）
写真倍率：×10 ～ 2,000,000
プローブ電流：数 pA～500 nA（30kV）
：数 pA～100 nA（5kV）
（2）エネルギー分散形X線分析装置
検出器：シリコンドリフト検出器 100mm2
エネルギー分解能：129 eV
検出可能元素：Be ～ U
（3）シンチレータ反射電子検出器（SBED）
（4）上方電子検出器（UED）
（5）透過電子検出器（TED）
（6）低真空対応
（7）非暴露対応
- 設備状況
- 稼働中
集束イオンビーム加工観察装置（FIB） (MultiBeam System (FIB))
- 設備ID
- UT-156
- 設置機関
- 東京大学
- 設備画像
- メーカー名
- 日本電子株式会社 (JEOL Ltd.)
- 型番
- JIB-PS500i
- 仕様・特徴
- □ 特長
・ 高分解能 FE-SEM を搭載し、ピンポイントでの断面作製が可能
・ 高分解能 SEM で FIB 加工状況をリアルタイムにモニタ可能
・ インレンズサーマル電子銃を搭載し、最大 500nA の大電流による安定した高速分析が可能
・ STEM観察が可能（BF,HAADF）
□ 主な仕様
FIB（収束イオンビーム）
・ イオン源：Ga液体金属イオン源
・ 加速電圧：0.5～30kV
・ 倍率：×50～×300,000
・ イオンビーム加工形状：矩形、ライン、スポット
SEM（電子ビーム）
・ 加速電圧：0.01～30kV
・ 倍率：×20～×1,000,000
・ 像分解能：0.7nm（加速電圧15kV）、1.0nm（加速電圧1kV）
- 設備状況
- 稼働中
カーボンコーター (Carbon coater )
- 設備ID
- UT-713
- 設置機関
- 東京大学
- 設備画像
- メーカー名
- 明和フォーシス (Meiwafosis )
- 型番
- CADE-4T
- 仕様・特徴
- 帯電しやすい試料をカーボンでコーティングして鮮明な走査電子顕微鏡増が得られます。
- 設備状況
- 稼働中
電子線顕微鏡観察用コーター (Coater for SEM analysis)
- 設備ID
- UT-714
- 設置機関
- 東京大学
- 設備画像
- メーカー名
- Gatan (Gatan)
- 型番
- PECS
- 仕様・特徴
- スパッタによりカーボン膜など観察用の薄膜を堆積できます
- 設備状況
- 稼働中
簡易電子顕微鏡 (Tabletop SEM)
- 設備ID
- UT-853
- 設置機関
- 東京大学
- 設備画像
- メーカー名
- 日立ハイテクノロジーズ (Hitachi High-Tech)
- 型番
- TM-3030Plus
- 仕様・特徴
- 卓上顕微鏡、EDX付
- 設備状況
- 稼働中
高精細電子顕微鏡 (Ultra-high Resolution Scanning Electron Microscope (SEM))
- 設備ID
- UT-855
- 設置機関
- 東京大学
- 設備画像
- メーカー名
- 日立ハイテクノロジーズ (Hitachi High-Tech)
- 型番
- Regulus 8230
- 仕様・特徴
- 分解能は1 kVで0.7 nm。最高倍率は200万倍の電界放出電子源を用いた高分解能走査型電子顕微鏡
- 設備状況
- 稼働中
電子顕微鏡 (Scanning Electron Microscope (SEM))
- 設備ID
- UT-858
- 設置機関
- 東京大学
- 設備画像
- メーカー名
- 日本電子㈱ (JEOL)
- 型番
- JSM-6610LV Oxford X-max50 + Energy 250
- 仕様・特徴
- エネルギー分散型X線分析装置(元素分析装置)付きの走査電子顕微鏡です。
- 設備状況
- 稼働中
小型原子間力顕微鏡 (Atomin Force Microscope (AFM))
- 設備ID
- UT-859
- 設置機関
- 東京大学
- 設備画像
- メーカー名
- 日立ハイテクサイエンス (Hitachi High-Tech Science)
- 型番
- SPA400+SPI4000
- 仕様・特徴
- 日立ハイテクサイエンス(旧SII社製)AFM。試料サイズ：φ35mm厚み10mm、スキャナー走査範囲：150μm×150μm（高さ5μm）、20μm×20μm（高さ1.5μm）、AFMモード、DFMモード
- 設備状況
- 稼働中