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極微小単結晶電子回折システム (Electron diffraction system for crystal structure analysis)
- 設備ID
- KU-520
- 設置機関
- 九州大学
- 設備画像
- メーカー名
- リガク (Rigaku)
- 型番
- XtaLAB Synergy-ED
- 仕様・特徴
- 電子線源：熱電子放出型電子銃（Lab6）
最高加速電圧：200kV
電子線照射量：0.01e-/Å2/sec以下での測定が可能
解析可能な結晶軸の長さ：60Å以上の結晶軸を持つ試料の構造解析が可能
試料室：試料移動付き4軸（X,Y,Z,X傾斜）ゴニオメーター、ユーセントリックハイトが調整された試料ステージにおいて、データ測定の際に測定対象の試料を常に電子線照射領域内に保持可能
傾斜角：X軸傾斜±80°
検出器：直接検出型フォトンカウンティング方式
検出面積：77.5 × 36.5 mm2
最大フレームレート：131fps（16bit読出時）
ピクセルサイズ：100 × 100 μm2
最大計数率（ダイナミックレンジ）> 1 × 106 cps/pixel
試料室の最高到達真空度：2.0×10-5Pa
- 設備状況
- 稼働中
実動環境対応電子線ホログラフィー電子顕微鏡 (Real working environmental electron holography microscope)
- 設備ID
- NM-502
- 設置機関
- 物質・材料研究機構 (NIMS)
- 設備画像
- メーカー名
- 日本電子 (JEOL)
- 型番
- JEM-ARM200F-B
- 仕様・特徴
- ・照射系レンズ収差補正、結像系レンズ収差補正
・Cold FEG
・加速電圧: 60, 80, 200 kV
・TEM, STEM, EDS, EELS, 電子線ホ口グラフイー, 電子線トモグラフィー
- 設備状況
- 稼働中
200kV電界放出形透過電子顕微鏡（JEM-2100F1） (200kV field emission transmission electron microscope)
- 設備ID
- NM-503
- 設置機関
- 物質・材料研究機構 (NIMS)
- 設備画像
- メーカー名
- 日本電子 (JEOL)
- 型番
- JEM-2100F1
- 仕様・特徴
- ・ショットキーFEG
・加速電圧: 100, 120, 200 kV
・TEM, STEM, EDS, EELS, 電子線トモグラフィー
- 設備状況
- 稼働中
200kV電界放出形透過電子顕微鏡（JEM-2100F2） (200kV field emission transmission electron microscope)
- 設備ID
- NM-504
- 設置機関
- 物質・材料研究機構 (NIMS)
- 設備画像
- メーカー名
- 日本電子 (JEOL)
- 型番
- JEM-2100F2
- 仕様・特徴
- ・ショットキーFEG
・加速電圧: 100, 120, 200 kV
・TEM, STEM, EDS, EELS, 電子線トモグラフィー
- 設備状況
- 稼働中
200kV透過電子顕微鏡 (200kV transmission electron microscope)
- 設備ID
- NM-505
- 設置機関
- 物質・材料研究機構 (NIMS)
- 設備画像
- メーカー名
- 日本電子 (JEOL)
- 型番
- JEM-2100
- 仕様・特徴
- ・熱電子銃
・加速電圧: 80, 100, 120, 160, 200 kV
・TEM, STEM, EDS, EELS, 電子線トモグラフィー
- 設備状況
- 稼働中