共用設備検索

共用設備検索結果

フリーワード検索


表示件数

単結晶X線構造解析装置 (Single Crystal X-ray Diffractometer)

設備ID
TU-613
設置機関
東北大学
設備画像
単結晶X線構造解析装置
メーカー名
リガク (Rigaku)
型番
XtaLAB Synergy
仕様・特徴
・型式:回転対陰極方式
・最大定格出力:1.2 kW
・ターゲット:2色管球 Cu/Mo
・X線光学系:集光型人工多層膜 集光ミラー
・ゴニオメーター:χ軸;-179°~+179°、2θ軸測角範囲;-100°~+120°
・検出器:HyPiX-6000HE
設備状況
稼働中

DSC粉末X線同時測定装置  (Powder X-ray diffractometer)

設備ID
UE-004
設置機関
電気通信大学
設備画像
DSC粉末X線同時測定装置
メーカー名
リガク (Rigaku)
型番
Ultima III
仕様・特徴
粉末X線回折測定、示差走査熱量(DSC)とXRDの同時測定
・Cu封入管線源 集中法/平行法切替ユニット
・DSC測定温度範囲:-40℃〜350℃
設備状況
稼働中

HPC型単結晶X線回折装置 (Single crystal X-ray diffractometer)

設備ID
UE-005
設置機関
電気通信大学
設備画像
HPC型単結晶X線回折装置
メーカー名
リガク (Rigaku)
型番
XtaLab Synergy-R/DW/RF
仕様・特徴
単結晶試料のX線結晶構造解析
・Cu & Moデュアルターゲット高輝度回転対陰極型X線発生装置
・試料位置でのX線光束:約130 µm
・窒素ガス吹付型試料冷却装置
設備状況
稼働中

精密構造解析用X線回折装置 (Powder X-ray diffractometer)

設備ID
UE-018
設置機関
電気通信大学
設備画像
精密構造解析用X線回折装置
メーカー名
リガク (Rigaku)
型番
SmartLab/R/Kα1/RE
仕様・特徴
粉末X線回折測定、薄膜試料の結晶構造解析
・Cu線源 回転対陰極型X線発生装置 9 kW
・集中法/平行法切替ユニット Kα1ユニット Ge(220)モノクロ
・10試料自動交換装置搭載、汎用試料台(χΦアタッチメント)
設備状況
稼働中

無機微小結晶構造解析装置 (X-ray Single Crystal Diffractometer)

設備ID
UT-201
設置機関
東京大学
設備画像
無機微小結晶構造解析装置
メーカー名
リガク㈱ (Rigaku Co.)
型番
VariMax Dual
仕様・特徴
□ 主な特長
・ これまで放射光でないと回折強度測定が困難であった数十μm角以下の低分子およびタンパ質結晶や一片が10μm以下の結晶などの微小結晶の構造解析が可能
・ 高輝度X線源と湾曲型人工多層膜ミラーの組み合わせにより、結晶位置に高輝度X線を導くことが可能
・ Mo/Cu両方の線源を使用可能であり無機・有機化合物の構造解析を線源に依存することなく測定可能
□ 主な仕様
・ X線源:1.2kW発生装置 / 実効輝度31kW/mm2/ Mo・Cuターゲット
・ X線光学素子(VariMax Dual):湾曲型人工多層膜ミラー Mo・Cu両波長に対応した光学素子
・ 検出器:高感度・広ダイナミックレンジ2次元検出器により迅速な測定が可能
・シャッターを開放のまま、ゴニオメーター連続駆動をしてのシームレス測定が可能
・結晶を-180℃までの冷却が可能
設備状況
稼働中

高輝度In-plane型X線回折装置 (XRD)

設備ID
UT-202
設置機関
東京大学
設備画像
高輝度In-plane型X線回折装置
メーカー名
㈱リガク (Rigaku Co.)
型番
SmartLab(9kW)
仕様・特徴
□ 主な特長
・ 高輝度X線源 及び In-Planeアームを搭載した試料水平配置高精度ゴニオメータを使用したX線回折装置。
・ 粉末試料測定に適した集中法光学系,薄膜試料の測定に適している多層膜ミラーを用いた平行ビーム光学系によるX線反射率測定,逆格子マップ測定,ロッキングカーブ測定などを簡単なユニット交換で組み替えて利用することが可能。
・ インプレーンアームの搭載により、極薄膜の評価や完全極点測定が可能。
□ 主な仕様
・ X線源:9kW回転対陰極X線発生装置A/Cuターゲット
・ 光学系:集中法・多層膜平行ビーム法・薄膜高分解平行ビーム法・インプレーン光学系
・ 検出器:HyPix-3000
設備状況
稼働中

粉末X線回折装置 (XRD)

設備ID
UT-203
設置機関
東京大学
設備画像
粉末X線回折装置
メーカー名
㈱リガク (Rigaku Co.)
型番
SmartLab (3kW)
仕様・特徴
□ 主な特長
・ 粉末試料測定に適した集中法光学系,薄膜試料の測定に適している多層膜ミラーを用いた平行ビーム光学系。
・ In-Planeアームを搭載した試料水平配置高精度ゴニオメータを使用したX線回折装置。
・ 900℃までの高温測定用アタッチメントも用意している。
□ 主な仕様
・ X線源:3 kW封入型X線管/Cuターゲット
・ 光学系:集中法・多層膜平行ビーム法・インプレーン光学系
・ 検出器:シンチレーション検出器:1次元半導体検出器
・SmartLab用AntonPaarDHS900アタッチメント
設備状況
稼働中

粉末X線回折装置 (XRD)

設備ID
UT-204
設置機関
東京大学
設備画像
粉末X線回折装置
メーカー名
㈱リガク (Rigaku Co.)
型番
SmartLab (Kα1)
仕様・特徴
□ 主な特長
対称ヨハンソン型結晶を用いた光学系による高強度、高角度分解能測定が可能。粉末X線回折等に威力を発揮。
□ 主な仕様
・ X線源:3 kW封入型X線管/Cuターゲット
・ 光学系:集中法・集光法
・ 検出器:シンチレーション検出器:1次元半導体検出器
・対称ヨハンソン型結晶を用いた光学系が可能
・キャピラリー回転測定可能
設備状況
稼働中

薄膜構造解析用X線回折装置 (XRD)

設備ID
UT-205
設置機関
東京大学
設備画像
薄膜構造解析用X線回折装置
メーカー名
㈱リガク (Rigaku Co.)
型番
SmartLab-XE(9kW)
仕様・特徴
□ 主な特長
・ 高輝度X線源 及び In-Planeアームを搭載した試料水平配置高精度ゴニオメータを使用したX線回折装置。
・ 粉末試料測定に適した集中法光学系,薄膜試料の測定に適している多層膜ミラーを用いた平行ビーム光学系によるX線反射率測定,逆格子マップ測定,ロッキングカーブ測定などを簡単なユニット交換で組み替えて利用することが可能。
・ インプレーンアームの搭載により、極薄膜の評価や完全極点測定が可能。
・微小部光学系と観察用カメラ、X-Yステージにより微小領域測定やマッピング測定が可能
・透過SAXS/WAXS、GI-SAXS/WAXSが可能
□ 主な仕様
・ X線源:9kW回転対陰極X線発生装置/Cuターゲット
・ 光学系:集中法・多層膜平行ビーム法・薄膜高分解平行ビーム法・インプレーン光学系・透過光学系・微小部光学系
・ 検出器:HyPix-3000
設備状況
稼働中

高分子相構造解析システム (Polymer Phase Structure Analyzing system)

設備ID
YG-011
設置機関
山形大学
設備画像
高分子相構造解析システム
メーカー名
大塚電子 エビデント ライカ (Otsuka Electronics Evident Leica)
型番
PP-1000 BX53LED-33P-OC-D Multicut R
仕様・特徴
1. 小角散乱装置
小角光散乱により短時間でサブミクロン~数百ミクロンの高分子やフィルムの構造を評価できる。加熱冷却ステージ付で温度による構造変化をリアルタイム測定可能。
システムで総合的に評価。
・ポリマーブレンドの相分離過程
・ポリマーの結晶化過程
2.偏光観察用システム顕微鏡
無限遠補正UIS2光学系と偏光特性を考慮した光学系により偏光観察、レタデーション測定が可能。高解像度、高コントラストの画像提供
3. ミクロトーム
2段階のトリミング機能(50、10ミクロン)による素早い面出しと正確な試料送り機構による、正確な厚みの切片を作成可能。タングステンブレード、ダイヤモンドナイフを用いる。
設備状況
稼働中
印刷する
PAGE TOP
スマートフォン用ページで見る