プラズマCVD装置
最終更新日：2022年6月7日
| 設備ID | NU-221 |
|---|---|
| 分類 | 成膜装置 > 化学蒸着(CVD)装置 |
| 設備名称 | プラズマCVD装置 (Plasma CVD) |
| 設置機関 | 名古屋大学 |
| 設置場所 | 先端技術共同研究施設 |
| メーカー名 | サムコ (Samco) |
| 型番 | PD-240 |
| キーワード | プラズマCVD SiO2成膜 |
| 仕様・特徴 | ・基板加熱：抵抗加熱式 (～400℃) ・適正ウェハ寸法：不定形～3インチ径 ・供給ガス：TEOS, O2 |
| 設備状況 | 稼働中 |
| 本設備の利用事例 | https://nanonet.go.jp/user_report.php?keyword=NU-221 |
