レジスト塗布・現像装置
最終更新日：2025年7月14日
| 設備ID | TH-521 |
|---|---|
| 分類 | リソグラフィ > レジスト処理装置 |
| 設備名称 | レジスト塗布・現像装置 (Coater and Developer system) |
| 設置機関 | 豊橋技術科学大学 |
| 設置場所 | IRES2 |
| メーカー名 | ASAP, ミカサ (ASAP, Mikasa) |
| 型番 | FRD4-000-07(original), MS-B100 |
| キーワード | リソグラフィプロセスにおけるレジスト塗布・現像処理用 |
| 仕様・特徴 | 【FRD4-000-07(original)】 i線ステッパ専用のレジスト塗布・現像装置 試料サイズ：φ4インチ レジスト：THMR-iP3100HS LB 15cP 現像液：NMD-3 リンス液：DIW 【MS-B100】 試料サイズ：φ10mm～φ4インチ レジスト：OMR,OFPR,iP3100 その他応相談 |
| 設備状況 | 稼働中 |
| 本設備の利用事例 | https://nanonet.go.jp/user_report.php?keyword=TH-521 |
