コンタクト露光装置
最終更新日：2025年7月14日
| 設備ID | TH-502 |
|---|---|
| 分類 | リソグラフィ > 光露光（マスクアライナ） |
| 設備名称 | コンタクト露光装置 (Contact lithography system) |
| 設置機関 | 豊橋技術科学大学 |
| 設置場所 | IRES2 |
| メーカー名 | キヤノン, SuSS (Canon, Suss) |
| 型番 | PLA-501(F), PLA-600, MA6 BSA |
| キーワード | 集積回路、MEMSのパターン形成、裏面アライメント対応 |
| 仕様・特徴 | 【PLA-501(F)】 自動ローディング機構付き2台、自動ローディング無し1台 光源：i～h 対応基板：φ2インチ マスクサイズ：5インチ 特記事項：自動ローディング無し装置はφ2インチ以下も対応可能 【PLA-600】 光源:i～h 対応基板：φ4インチ マスクサイズ：5インチ 【MA6 BSA】 対応基板：20mm角～φ4インチ マスクサイズ：2.5インチ～5インチ 裏面アライメント可能 |
| 設備状況 | 稼働中 |
| 本設備の利用事例 | https://nanonet.go.jp/user_report.php?keyword=TH-502 |
