i線露光装置
最終更新日：2025年7月14日
| 設備ID | TH-501 |
|---|---|
| 分類 | リソグラフィ > 光露光（ステッパ） |
| 設備名称 | i線露光装置 (i-line lithography system) |
| 設置機関 | 豊橋技術科学大学 |
| 設置場所 | IRES2 |
| メーカー名 | ニコン, キヤノン (Nikon, Canon) |
| 型番 | NSR-TFHi12CH, FPAｰ3030i5a |
| キーワード | 集積回路の微細パターン露光、透明基板、裏面アライメント対応 |
| 仕様・特徴 | i線の1/5縮小投影露光装置 【NSR-TFHi12CH】 対応基板：Si基板専用 φ4インチ マスク仕様：5インチ(青板) 最大露光サイズ：20mm 【FPAｰ3050i5a】 対応基板：φ4インチ または φ6インチ マスク仕様：6インチ(石英) 最大露光サイズ：22mm 特殊仕様：透明基板対応、裏面アライメント対応 |
| 設備状況 | 稼働中 |
| 本設備の利用事例 | https://nanonet.go.jp/user_report.php?keyword=TH-501 |
