金属成膜装置
最終更新日：2025年7月14日
| 設備ID | TH-201 |
|---|---|
| 分類 |
成膜装置 > スパッタリング（スパッタ） 成膜装置 > 蒸着(抵抗加熱、電子線) |
| 設備名称 | 金属成膜装置 (Metal Deposition System ) |
| 設置機関 | 豊橋技術科学大学 |
| 設置場所 | IRES2 |
| メーカー名 | キヤノンアネルバ, ノイエス, サンバック (Canon Anelva, Noyes, SANVAC) |
| 型番 | L-420S-FHL, E-400S, E-401S, RFS-400, ED-1600 |
| キーワード | 集積回路、MEMS/センサデバイス用金属膜成膜 |
| 仕様・特徴 | 各種金属材料の成膜 【L-420S-FHL】 方式：DCスパッタ、フェイスアップ 対応試料：φ4インチ3枚またはφ2インチ6枚まで 材料：純Al、Al-1%Si 【E-400S】 方式：DC/RFスパッタ、フェイスダウン 対応試料：φ4インチ3枚またはチップトレイ 材料：純Al、Al-1%Si、Ti、W、TiN(反応性スパッタにて) 【E-401S】 方式：RF、フェイスアップ 対応試料：φ4インチ3枚 材料：Al、Al-1%Si、Ti、TiN(反応性スパッタにて)、その他金属持ち込み可能 【ノイエス】 方式：RFガン、フェイスダウン 対応試料：φ4インチ以下 材料：Ti,Pt,Au,Ir その他金属持ち込み可能 【ED-1600】 方式：EB蒸着、フェイスダウン 対応試料：φ6インチ以下 材料：Au、Ti その他金属持ち込み可能 |
| 設備状況 | 稼働中 |
| 本設備の利用事例 | https://nanonet.go.jp/user_report.php?keyword=TH-201 |
