ウェット処理・洗浄装置
最終更新日：2025年7月14日
| 設備ID | TH-101 |
|---|---|
| 分類 | 表面処理・洗浄 > ウェット処理 |
| 設備名称 | ウェット処理・洗浄装置 (Wet bench) |
| 設置機関 | 豊橋技術科学大学 |
| 設置場所 | IRES2 |
| メーカー名 | ダルトン, クレセン, セミツール, レグザム, カナメックス (DALTON, Clesen, Semitool, Rexxam, Kanamex) |
| 型番 | ECS-1, DF-1, ECD-3000BEW, CWC4+4M, SRD270(改), SCRD4, KES-200NP2 |
| キーワード | 集積回路、MEMS/センサプロセスの洗浄、ウェットエッチング処理 |
| 仕様・特徴 | 【無機ドラフタ(DF-1, ECD-3000BEW)】 RCA洗浄、DHF、BHF、混酸等の調合、昇温、ウェハ処理、DIW水洗、スピン乾燥またはN2ブロー乾燥が可能 【無機洗浄バッチ層(クレセン)】 4インチウェハ1ケース(25枚)単位でのRCA洗浄およびDHF処理、DIW水洗が可能。 【有機ドラフタ(ECS-1)】 イエロールーム内に設置。リソグラフィ後の現像処理が可能。DIW使用可能。N2ブロー可能 【マスク加工装置(KES-200NP2)】 マスク製作時のクロムエッチングおよび硫酸過水によるレジスト剥離装置 【超臨界洗浄装置(SCRD4）】 MEMS稼働構造形成時の水洗後乾燥をCO2超臨界乾燥にて行える。φ4インチウェハサイズまで対応 |
| 設備状況 | 稼働中 |
| 本設備の利用事例 | https://nanonet.go.jp/user_report.php?keyword=TH-101 |
