研磨パーティクル洗浄装置
最終更新日：2025年4月3日
| 設備ID | UT-919 |
|---|---|
| 分類 | 組立・パッケージング > 研磨(化学、機械) |
| 設備名称 | 研磨パーティクル洗浄装置 (Abrasive particle cleaning equipment) |
| 設置機関 | 東京大学 |
| 設置場所 | 武田先端知クリーンルーム |
| メーカー名 | ハイソル株式会社 (Hisol Inc.) |
| 型番 | ParticlClean |
| キーワード | 洗浄 |
| 仕様・特徴 | 卓上型の洗浄装置です。CMPなどの研磨後のウエハー洗浄など、手洗いの代替としてご使用頂けます。 ・柔らかいPVA パッドでスクラブ洗浄し、更に純水ミストを高速衝突させるスクラブと2流体(ミスト)のダブル洗浄で優しく強力にパーティクルを除去 ・試料をセットしてボタンを押すだけで洗浄からスピン乾燥まで自動処理します。 ・最大6インチウエハ。個片加納。 ・「スクラブ洗浄」「2 流体洗浄」「リンス」「乾燥」といった一連のプロセスを一台の装置で行うことが出来ます。プロセスレシピを保存できます。 ・HEPAフィルター内蔵 |
| 設備状況 | 稼働中 |
| 本設備の利用事例 | https://nanonet.go.jp/user_report.php?keyword=UT-919 |