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スプレーコーター

最終更新日:2025年4月3日
設備ID UT-513
分類 成膜装置 > コーター(スピン、ディップ、スプレイなど)
リソグラフィ > レジスト処理装置
設備名称 スプレーコーター (Spray Coater)
設置機関 東京大学
設置場所 武田先端知クリーンルーム
メーカー名 三明電子産技株式会社 (Sanmei Electronics Co. Ltd.)
型番 DC111
キーワード スプレーコーター、レジスト塗布、成膜
仕様・特徴 本装置はMEMSデバイス、及び各種半導体研究用に開発されたスプレーコーターです。
1.MEMSデバイスに対応
2.凸凹面への膜厚均一塗布
3.ビア、トレンチ埋め込み塗布
4.ヒータ内蔵試料台を装備。最大100℃までの試料温度制御が可能です。
5.サーボモータは、低振動、低発熱、高精度の弊社「Si-servo」を使用しています。
設備状況 稼働中
本設備の利用事例 https://nanonet.go.jp/user_report.php?keyword=UT-513
  • 【更新日】0年0月0日
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