薄膜構造解析用Ｘ線回折装置
最終更新日：2025年4月3日
| 設備ID | UT-205 |
|---|---|
| 分類 | 回折・散乱 > X線回折 |
| 設備名称 | 薄膜構造解析用Ｘ線回折装置 (XRD) |
| 設置機関 | 東京大学 |
| 設置場所 | 東京大学 浅野キャンパス 工学部9号館 |
| メーカー名 | ㈱リガク (Rigaku Co.) |
| 型番 | SmartLab-XE(9kW) |
| キーワード | In-Plane Out-of-Plane HyPix-3000 XRR 逆格子マップ 極点図 ロッキングカーブ 配向 膜厚 散乱 微小部 |
| 仕様・特徴 | □ 主な特長 ・ 高輝度Ｘ線源 及び In-Planeアームを搭載した試料水平配置高精度ゴニオメータを使用したＸ線回折装置。 ・ 粉末試料測定に適した集中法光学系，薄膜試料の測定に適している多層膜ミラーを用いた平行ビーム光学系によるＸ線反射率測定，逆格子マップ測定，ロッキングカーブ測定などを簡単なユニット交換で組み替えて利用することが可能。 ・ インプレーンアームの搭載により、極薄膜の評価や完全極点測定が可能。 ・微小部光学系と観察用カメラ、X-Yステージにより微小領域測定やマッピング測定が可能 ・透過SAXS/WAXS、GI-SAXS/WAXSが可能 □ 主な仕様 ・ X線源：9kW回転対陰極X線発生装置/Cuターゲット ・ 光学系：集中法・多層膜平行ビーム法・薄膜高分解平行ビーム法・インプレーン光学系・透過光学系・微小部光学系 ・ 検出器：HyPix-3000 |
| 設備状況 | 稼働中 |
| 本設備の利用事例 | https://nanonet.go.jp/user_report.php?keyword=UT-205 |
