ICP - CVD装置
本設備の共用は終了しています。
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最終更新日：2025年4月3日
| 設備ID | RO-316 |
|---|---|
| 分類 | 成膜装置 > 化学蒸着(CVD)装置 |
| 設備名称 | ICP - CVD装置 (ICP - CVD reactor) |
| 設置機関 | 広島大学 |
| 設置場所 | C1棟 |
| メーカー名 | アユミ工業 (Ayumi INDUSTRY CO.,LTD.) |
| 型番 | |
| キーワード | |
| 仕様・特徴 | 対応wafer：４inch以下 【技術代行専用】 アモルファスシリコン膜、アモルファスゲルマニウム膜の成膜 |
| 設備状況 | 共用を終了した設備です |
| 本設備の利用事例 | https://nanonet.go.jp/user_report.php?keyword=RO-316 |
