人気のデータセット（全期間）
表示件数
人気ランキング表示順
- 各種フォトレジストL / S (ライン＆スペース）のMLA150露光条件最適化
- 課題名：
- レジストの形状観察
- 課題番号：
- JPMXP1222TU0157
- ファイル数：
- 122
- 実施機関：
- 東北大学
- 装置・プロセス：
-
TU-052：アクテス スピンコータ#1
TU-058：マスクレスアライナ
TU-054：ホットプレート
TU-060：現像ドラフト
TU-316：JEOL FE-SEM
- 登録日：
- 2024.1.31
ライセンスレベルの説明
ライセンスレベル
Level1：Open
Level2：Sample
Level3：License
Level4：Restricted
Level5：Confidential
Si基板上のEBレジスト(ZEP520A)のコントラストカーブ- 課題名：
- Si基板上EBレジスト(ZEP520A)のコントラストカーブの現像条件依存性
- 課題番号：
- JPMXP1225NM2007
- ファイル数：
- 115
- 実施機関：
- 物質・材料研究機構
- 装置・プロセス：
-
NM-635：電子ビーム描画装置 [ELS-BODEN100]
- 登録日：
- 2025.8.26
ライセンスレベルの説明
ライセンスレベル
Level1：Open
Level2：Sample
Level3：License
Level4：Restricted
Level5：Confidential
ダウンロードの説明
クリックするとファイル群をダウンロードすることができます。
- X線光電子分光装置を用いた標準試料測定データの取得
- 課題名：
- X線光電子分光装置を用いた標準試料測定データの取得
- 課題番号：
- JPMXP1222HK9001
- ファイル数：
- 130
- 実施機関：
- 北海道大学
- 装置・プロセス：
-
HK-201：X線光電子分光装置
HK-406：X線光電子分光装置
- 登録日：
- 2024.9.10
ライセンスレベルの説明
ライセンスレベル
Level1：Open
Level2：Sample
Level3：License
Level4：Restricted
Level5：Confidential
- 水蒸気二流体による金(Au)薄膜のリフトオフ
- 課題名：
- 水蒸気二流体による金(Au)薄膜のリフトオフ
- 課題番号：
- JPMXP1225NM2004
- ファイル数：
- 6
- 実施機関：
- 物質・材料研究機構
- 装置・プロセス：
-
NM-668：蒸気二流体洗浄装置 [SSM101]
- 登録日：
- 2025.5.27
ライセンスレベルの説明
ライセンスレベル
Level1：Open
Level2：Sample
Level3：License
Level4：Restricted
Level5：Confidential
ダウンロードの説明
クリックするとファイル群をダウンロードすることができます。
- MLA150におけるフォーカスの再現性とフォーカスシフトの検証
- 課題名：
- レジスト断面形状と露光フォーカス再現性の検証
- 課題番号：
- JPMXP1223TU0203
- ファイル数：
- 50
- 実施機関：
- 東北大学
- 装置・プロセス：
-
TU-052：アクテス スピンコータ#1
TU-058：マスクレスアライナ
TU-054：ホットプレート
TU-060：現像ドラフト
TU-316：JEOL FE-SEM
- 登録日：
- 2024.3.18
ライセンスレベルの説明
ライセンスレベル
Level1：Open
Level2：Sample
Level3：License
Level4：Restricted
Level5：Confidential
- ドライ酸素ガスによるSi基板の熱酸化膜の評価（分光エリプソメーター）
- 課題名：
- ドライ酸素ガスによるSi基板の熱酸化膜の評価
- 課題番号：
- JPMXP1222WS0083
- ファイル数：
- 39
- 実施機関：
- 早稲田大学
- 装置・プロセス：
-
WS-026：高性能分光エリプソメータ
- 登録日：
- 2024.11.11
ライセンスレベルの説明
ライセンスレベル
Level1：Open
Level2：Sample
Level3：License
Level4：Restricted
Level5：Confidential
- 200kV電界放出形透過電子顕微鏡による金ナノ粒子標準試料観察
- 課題名：
- ナノ構造評価技術開発
- 課題番号：
- JPMXP1223NM2102
- ファイル数：
- 48
- 実施機関：
- 物質・材料研究機構
- 装置・プロセス：
-
NM-503：200kV電界放出形透過電子顕微鏡（JEM-2100F1）
- 登録日：
- 2024.11.20
ライセンスレベルの説明
ライセンスレベル
Level1：Open
Level2：Sample
Level3：License
Level4：Restricted
Level5：Confidential
ダウンロードの説明
クリックするとファイル群をダウンロードすることができます。
- SUS316L造形体のTEM観察
- 課題名：
- 金属無機材料の組織と組成に着目した微細構造解析
- 課題番号：
- JPMXP1222OS0000
- ファイル数：
- 23
- 実施機関：
- 大阪大学
- 装置・プロセス：
-
OS-003：200kV原子分解能走査透過分析電子顕微鏡
- 登録日：
- 2023.12.8
ライセンスレベルの説明
ライセンスレベル
Level1：Open
Level2：Sample
Level3：License
Level4：Restricted
Level5：Confidential
- 電極表面でのCO2およびイオン液体の挙動に関する表面増強赤外分光による観察
- 課題名：
- CO2還元電極材料によるCO2変換反応
- 課題番号：
- JPMXP1222NI1001
- ファイル数：
- 6
- 実施機関：
- 名古屋工業大学
- 装置・プロセス：
-
NI-010：表面増強赤外分光装置
- 登録日：
- 2025.11.12
ライセンスレベルの説明
ライセンスレベル
Level1：Open
Level2：Sample
Level3：License
Level4：Restricted
Level5：Confidential
- 非平衡合成による多元素ナノ合金（RuRhPdAgInSnSbIrPtBi-C）の原子分解能構造解析
- 課題名：
- 非平衡合成による多元素ナノ合金の原子分解能構造解析
- 課題番号：
- JPMXP1222KU0001
- ファイル数：
- 39
- 実施機関：
- 九州大学
- 装置・プロセス：
-
KU-004：広電圧超高感度原子分解能電子顕微鏡
- 登録日：
- 2025.7.9
ライセンスレベルの説明
ライセンスレベル
Level1：Open
Level2：Sample
Level3：License
Level4：Restricted
Level5：Confidential
- 発光賦活希土類イオンEu3+ を添加したCa2SnO4 赤色蛍光体のSTEM観察
- 課題名：
- 先端電子顕微鏡群によるナノ材料の物性解析及び可視化
- 課題番号：
- JPMXP1222NU0058
- ファイル数：
- 163
- 実施機関：
- 名古屋大学
- 装置・プロセス：
-
NU-102：高分解能電子状態計測走査透過型電子顕微鏡システム
- 登録日：
- 2025.5.22
ライセンスレベルの説明
ライセンスレベル
Level1：Open
Level2：Sample
Level3：License
Level4：Restricted
Level5：Confidential
- プローブ部品の表面の微細構造_FIB-SEM
- 課題名：
- プローブ部品の表面の微細構造
- 課題番号：
- JPMXP1222NU0068
- ファイル数：
- 6
- 実施機関：
- 名古屋大学
- 装置・プロセス：
-
NU-105：バイオ/無機材料用高速FIB-SEMシステム
- 登録日：
- 2025.5.22
ライセンスレベルの説明
ライセンスレベル
Level1：Open
Level2：Sample
Level3：License
Level4：Restricted
Level5：Confidential
- High-k 材料の評価(ALD)
- 課題名：
- High-k材料の評価
- 課題番号：
- JPMXP1224AT0175
- ファイル数：
- 39
- 実施機関：
- 産業技術総合研究所
- 装置・プロセス：
-
AT-102：原子層堆積装置_3〔FlexAL〕
- 登録日：
- 2025.6.2
ライセンスレベルの説明
ライセンスレベル
Level1：Open
Level2：Sample
Level3：License
Level4：Restricted
Level5：Confidential
- GaAs基板上のEBレジスト(AR-P6200)のコントラストカーブ
- 課題名：
- GaAs基板上EBレジスト(AR-P6200)のコントラストカーブの現像条件依存性
- 課題番号：
- JPMXP1225NM2001
- ファイル数：
- 52
- 実施機関：
- 物質・材料研究機構
- 装置・プロセス：
-
NM-635：電子ビーム描画装置 [ELS-BODEN100]
- 登録日：
- 2025.8.26
ライセンスレベルの説明
ライセンスレベル
Level1：Open
Level2：Sample
Level3：License
Level4：Restricted
Level5：Confidential
ダウンロードの説明
クリックするとファイル群をダウンロードすることができます。
- ICP-RIE(CE300I)によるGaAsエッチング
- 課題名：
- GaAsのドライエッチング
- 課題番号：
- JPMXP1225NM2009
- ファイル数：
- 469
- 実施機関：
- 物質・材料研究機構
- 装置・プロセス：
-
NM-645：ICP-RIE装置 [CE300I]
- 登録日：
- 2025.10.30
ライセンスレベルの説明
ライセンスレベル
Level1：Open
Level2：Sample
Level3：License
Level4：Restricted
Level5：Confidential
ダウンロードの説明
クリックするとファイル群をダウンロードすることができます。
- NR-304_高性能単結晶X線自動解析装置による測定・解析例
- 課題名：
- マテリアル研究プラットフォームセンターにおける機器・分析事例データ
- 課題番号：
- JPMXP1225NR9001
- ファイル数：
- 28
- 実施機関：
- 奈良先端科学技術大学院大学
- 装置・プロセス：
-
NR-304：高性能単結晶X線自動解析装置
- 登録日：
- 2025.7.2
ライセンスレベルの説明
ライセンスレベル
Level1：Open
Level2：Sample
Level3：License
Level4：Restricted
Level5：Confidential
ダウンロードの説明
クリックするとファイル群をダウンロードすることができます。
- OHMBBA化合物のDSC粉末X線同時測定装置による測定(2022)
- 課題名：
- DSC粉末X線同時測定装置を利用した液晶物質OHMBBAにおける結晶構造の解析
- 課題番号：
- JPMXP1222UE5001
- ファイル数：
- 76
- 実施機関：
- 電気通信大学
- 装置・プロセス：
-
UE-004：DSC粉末X線同時測定装置
- 登録日：
- 2025.6.16
ライセンスレベルの説明
ライセンスレベル
Level1：Open
Level2：Sample
Level3：License
Level4：Restricted
Level5：Confidential
- 機能性無機材料の試料微細構造と電子物性の相関に関する研究【HK-702_MA-6】
- 課題名：
- 機能性無機材料の試料微細構造と電子物性の相関に関する研究
- 課題番号：
- JPMXP1222HK0016
- ファイル数：
- 57
- 実施機関：
- 北海道大学
- 装置・プロセス：
-
HK-702：両面マスクアライナ
- 登録日：
- 2025.10.9
ライセンスレベルの説明
ライセンスレベル
Level1：Open
Level2：Sample
Level3：License
Level4：Restricted
Level5：Confidential
- 直交型FIB-SEMによる熱電材料中のナノ構造組織の解析_β-FeSi2の加工
- 課題名：
- 機能性向上を目指した熱電材料中のナノ構造組織の解析
- 課題番号：
- JPMXP1222KU0023
- ファイル数：
- 51
- 実施機関：
- 九州大学
- 装置・プロセス：
-
KU-006：直交型FIB-SEM
- 登録日：
- 2025.10.1
ライセンスレベルの説明
ライセンスレベル
Level1：Open
Level2：Sample
Level3：License
Level4：Restricted
Level5：Confidential
- 2022_バイオ高分子材料の開発_SEM
- 課題名：
- バイオ高分子材料の開発
- 課題番号：
- JPMXP1222CT0204
- ファイル数：
- 550
- 実施機関：
- 公立千歳科学技術大学
- 装置・プロセス：
-
CT-010：走査型電子顕微鏡（SEM）
- 登録日：
- 2025.7.10
ライセンスレベルの説明
ライセンスレベル
Level1：Open
Level2：Sample
Level3：License
Level4：Restricted
Level5：Confidential