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高速時間応答ポアデバイス加工:OS-110リアクティブイオンエッチング装置- 課題名:
- 高感度ウイルスナノセンサの開発
- 課題番号:
- JPMXP1223OS1006
- ファイル数:
- 257
- 実施機関:
- 大阪大学
- 装置・プロセス:
-
OS-110:リアクティブイオンエッチング装置
- 登録日:
- 2025.10.17
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- 低抵抗のPoly-Si膜の形成_CVD
- 課題名:
- Poly-Si膜の成膜
- 課題番号:
- JPMXP1225TU5018
- ファイル数:
- 5
- 実施機関:
- 東北大学
- 装置・プロセス:
-
TU-152:熱CVD
- 登録日:
- 2025.11.26
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スピン転移とサーモサリエント特性が連動する錯体分子結晶のアルキル置換基効果のSQUIDによる解明2- 課題名:
- スピン転移とサーモサリエント特性が連動する錯体分子結晶のアルキル置換基効果の解明
- 課題番号:
- JPMXP1222MS1034
- ファイル数:
- 20
- 実施機関:
- 自然科学研究機構
- 装置・プロセス:
-
MS-219:SQUID(MPMS-XL7)
- 登録日:
- 2025.11.1
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- EBレジストの最適ドーズ条件出し_TGMR-EN103PE1.9_Lithography
- 課題名:
- EBレジストの最適ドーズ条件出し
- 課題番号:
- JPMXP1225TU5014
- ファイル数:
- 57
- 実施機関:
- 東北大学
- 装置・プロセス:
-
TU-064:エリオニクス 130kV EB描画装置
- 登録日:
- 2025.11.12
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- フォトレジスト(ZPN1150_90cp)のスピンカーブ
- 課題名:
- 各種フォトレジストの特性評価(2025年度実習)
- 課題番号:
- JPMXP1225TU5012
- ファイル数:
- 24
- 実施機関:
- 東北大学
- 装置・プロセス:
-
TU-052:アクテス スピンコータ#1
TU-056:両面アライナ
TU-060:現像ドラフト
TU-306:Tencor 段差計
- 登録日:
- 2025.11.12
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- フォトレジスト(TCIR-ZR8800_96cp)のスピンカーブ
- 課題名:
- 各種フォトレジストの特性評価(2025年度実習)
- 課題番号:
- JPMXP1225TU5012
- ファイル数:
- 24
- 実施機関:
- 東北大学
- 装置・プロセス:
-
TU-052:アクテス スピンコータ#1
TU-056:両面アライナ
TU-060:現像ドラフト
TU-306:Tencor 段差計
- 登録日:
- 2025.11.12
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高速時間応答ポアデバイス加工:OS-115RFスパッタ成膜装置:Ti、Au、Cr/Si- 課題名:
- 高感度ウイルスナノセンサの開発
- 課題番号:
- JPMXP1223OS1006
- ファイル数:
- 400
- 実施機関:
- 大阪大学
- 装置・プロセス:
-
OS-115:RFスパッタ成膜装置(絶縁体成膜用)
- 登録日:
- 2025.10.17
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- *******非開示*******
- 課題名:
- *******非開示*******
- 課題番号:
- JPMXP12********
- ファイル数:
- 17
- 実施機関:
- 量子科学技術研究開発機構
- 装置・プロセス:
-
QS-111:放射光メスバウアー分光装置
- 登録日:
- 2025.5.28
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高速時間応答ポアデバイス加工:OS-115RFスパッタ成膜装置:Au・Cr/リン青銅- 課題名:
- 高感度ウイルスナノセンサの開発
- 課題番号:
- JPMXP1223OS1006
- ファイル数:
- 44
- 実施機関:
- 大阪大学
- 装置・プロセス:
-
OS-115:RFスパッタ成膜装置(絶縁体成膜用)
- 登録日:
- 2025.10.17
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高速時間応答ポアデバイス加工:OS-115RFスパッタ成膜装置:Cr・Au/glass- 課題名:
- 高感度ウイルスナノセンサの開発
- 課題番号:
- JPMXP1223OS1006
- ファイル数:
- 12
- 実施機関:
- 大阪大学
- 装置・プロセス:
-
OS-115:RFスパッタ成膜装置(絶縁体成膜用)
- 登録日:
- 2025.10.17
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- 塗付時の湿度による現像後のレジスト膜厚の検証_Lithography
- 課題名:
- PMER_LAと後継レジストRMER_HAの露光条件の検証
- 課題番号:
- JPMXP1225TU5008
- ファイル数:
- 20
- 実施機関:
- 東北大学
- 装置・プロセス:
-
TU-052:アクテス スピンコータ#1
TU-062:コータデベロッパ
TU-058:マスクレスアライナ
- 登録日:
- 2025.11.12
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- *******非開示*******
- 課題名:
- *******非開示*******
- 課題番号:
- JPMXP12********
- ファイル数:
- 43
- 実施機関:
- 量子科学技術研究開発機構
- 装置・プロセス:
-
QS-111:放射光メスバウアー分光装置
- 登録日:
- 2025.5.28
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- フォトレジスト(TSMR-V90_27cp, FT=1.0um)の感度曲線
- 課題名:
- 各種フォトレジストの特性評価(2025年度実習)
- 課題番号:
- JPMXP1225TU5012
- ファイル数:
- 140
- 実施機関:
- 東北大学
- 装置・プロセス:
-
TU-052:アクテス スピンコータ#1
TU-056:両面アライナ
TU-060:現像ドラフト
TU-306:Tencor 段差計
- 登録日:
- 2025.11.12
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花粉アレルゲン検出用デバイス加工:OS-114RFスパッタ成膜装置(金属成膜用)- 課題名:
- 高感度ウイルスナノセンサの開発
- 課題番号:
- JPMXP1224OS1027
- ファイル数:
- 410
- 実施機関:
- 大阪大学
- 装置・プロセス:
-
OS-114:RFスパッタ成膜装置(金属成膜用)
- 登録日:
- 2025.10.17
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高速時間応答ポアデバイス加工:OS-114RFスパッタ成膜装置(金属成膜用)- 課題名:
- 高感度ウイルスナノセンサの開発
- 課題番号:
- JPMXP1223OS1006
- ファイル数:
- 440
- 実施機関:
- 大阪大学
- 装置・プロセス:
-
OS-114:RFスパッタ成膜装置(金属成膜用)
- 登録日:
- 2025.10.17
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- フォトレジスト(TSMR-V90_27cp)のHMDS処理_PEB処理の違い比較
- 課題名:
- 各種フォトレジストの特性評価(2025年度実習)
- 課題番号:
- JPMXP1225TU5012
- ファイル数:
- 26
- 実施機関:
- 東北大学
- 装置・プロセス:
-
TU-052:アクテス スピンコータ#1
TU-056:両面アライナ
TU-060:現像ドラフト
TU-306:Tencor 段差計
- 登録日:
- 2025.11.12
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花粉アレルゲン検出用デバイス加工:OS-110リアクティブイオンエッチング装置- 課題名:
- 高感度ウイルスナノセンサの開発
- 課題番号:
- JPMXP1224OS1027
- ファイル数:
- 462
- 実施機関:
- 大阪大学
- 装置・プロセス:
-
OS-110:リアクティブイオンエッチング装置
- 登録日:
- 2025.10.17
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- フォトレジスト(TSMR-iN080LP_50cp)のHMDS処理_PEB処理の違い比較
- 課題名:
- 各種フォトレジストの特性評価(2025年度実習)
- 課題番号:
- JPMXP1225TU5012
- ファイル数:
- 26
- 実施機関:
- 東北大学
- 装置・プロセス:
-
TU-052:アクテス スピンコータ#1
TU-056:両面アライナ
TU-060:現像ドラフト
TU-306:Tencor 段差計
- 登録日:
- 2025.11.12
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- スパッタで成膜した薄膜の膜厚及び内部応力の評価_sputtering
- 課題名:
- 芝浦スパッタ!-Miller冷却型の成膜評価
- 課題番号:
- JPMXP1225TU5007
- ファイル数:
- 126
- 実施機関:
- 東北大学
- 装置・プロセス:
-
TU-161:自動搬送 芝浦スパッタ装置(冷却型)
TU-326:Zygo Nexview
- 登録日:
- 2025.10.10
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- Au/Ni/Ti薄膜のシート抵抗測定
- 課題名:
- スパッタ成膜した薄膜のシート抵抗測定
- 課題番号:
- JPMXP1225TU5010
- ファイル数:
- 49
- 実施機関:
- 東北大学
- 装置・プロセス:
-
TU-159:芝浦スパッタ装置(冷却型)
TU-320:4探針測定装置
関連データカタログ
・積層配線_Au250_Ni100_Ti10_sputtering
・積層配線_Au250_Ni200_Ti10_sputtering
・積層配線_Au500_Ni100_Ti10_sputtering
・積層配線_Au500_Ni200_Ti10_sputtering
- 登録日:
- 2025.12.24
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