人気のデータセット(全期間)
表示件数
人気ランキング表示順
セラミック材料の微細構造解析- 装置・プロセス:
-
NU-102:高分解能電子状態計測走査透過型電子顕微鏡システム
- ファイル数:
- 46
- ファイルサイズ:
- 530.45MB
- 課題番号:
- JPMXP1223NU0044
- 課題名:
- セラミック材料の微細構造解析
- 実施機関:
- 名古屋大学
- 登録日:
- 2026.3.13
- ページビュー:
- 374
- ダウンロード数:
- 0
ライセンスレベルの説明
ライセンスレベル
Level1:Open
Level2:Sample
Level3:License
Level4:Restricted
Level5:Confidential
ALD成膜テストデータの取得 (NPF ALDデータベースシステムとの連携)[FY2022_ARIM Data FS]_HK-616:PDL_SUNALE-R- 装置・プロセス:
-
HK-616:原子層堆積装置
- ファイル数:
- 20
- ファイルサイズ:
- 384.88KB
- 課題番号:
- JPMXP1222HK9004
- 課題名:
- ALD成膜テストデータの取得(NPF ALDデータベースシステムとの連携)
- 実施機関:
- 北海道大学
- 登録日:
- 2023.10.27
- ページビュー:
- 374
- ダウンロード数:
- 0
ライセンスレベルの説明
ライセンスレベル
Level1:Open
Level2:Sample
Level3:License
Level4:Restricted
Level5:Confidential
単結晶Al2O3基板上のVO2薄膜の結晶構造の逆格子マップ- 装置・プロセス:
-
NR-301:X線構造解析装置
- ファイル数:
- 605
- ファイルサイズ:
- 385.22MB
- 課題番号:
- JPMXP1223NR0034
- 課題名:
- 単結晶Al2O3基板上のVO2薄膜の結晶構造
- 実施機関:
- 奈良先端科学技術大学院大学
- 登録日:
- 2023.10.27
- ページビュー:
- 373
- ダウンロード数:
- 0
ライセンスレベルの説明
ライセンスレベル
Level1:Open
Level2:Sample
Level3:License
Level4:Restricted
Level5:Confidential
イオンビームミリングによるAu薄膜加工- 装置・プロセス:
-
NM-669:イオンビームミリング複合装置 [16IBE-NIMS_SS]
- ファイル数:
- 78
- ファイルサイズ:
- 32.4MB
- 課題番号:
- JPMXP1225NM2016
- 課題名:
- イオンビームミリングによるAu薄膜加工
- 実施機関:
- 物質・材料研究機構
- 登録日:
- 2026.2.24
- ページビュー:
- 316
- ダウンロード数:
- 57
ライセンスレベルの説明
ライセンスレベル
Level1:Open
Level2:Sample
Level3:License
Level4:Restricted
Level5:Confidential
ダウンロードの説明
クリックするとファイル群をダウンロードすることができます。
エチルベンゼンの構造解析- 装置・プロセス:
-
JI-003:核磁気共鳴スペクトル測定装置 400MHz
- ファイル数:
- 18
- ファイルサイズ:
- 14.45MB
- 課題番号:
- JPMXP1223JI2001
- 課題名:
- エチルベンゼンの構造解析
- 実施機関:
- 北陸先端科学技術大学院大学
- 登録日:
- 2024.10.23
- ページビュー:
- 370
- ダウンロード数:
- 1
ライセンスレベルの説明
ライセンスレベル
Level1:Open
Level2:Sample
Level3:License
Level4:Restricted
Level5:Confidential
真空紫外光伝導性フッ化物薄膜の薄膜/基板界面- 装置・プロセス:
-
NI-002:特型走査電子顕微鏡装置
- ファイル数:
- 2
- ファイルサイズ:
- 918B
- 課題番号:
- JPMXP1222NI0203
- 課題名:
- フッ化ネオジム薄膜の真空紫外光伝導性への薄膜/基板界面の影響
- 実施機関:
- 名古屋工業大学
- 登録日:
- 2025.5.23
- ページビュー:
- 371
- ダウンロード数:
- 0
ライセンスレベルの説明
ライセンスレベル
Level1:Open
Level2:Sample
Level3:License
Level4:Restricted
Level5:Confidential
トポロジカル光回路の作製手法の検討- 装置・プロセス:
-
IT-014:ダイヤモンド用ICPリアクテブイオンエッチング装置
- ファイル数:
- 28
- ファイルサイズ:
- 1.41MB
- 課題番号:
- JPMXP1222IT0027
- 課題名:
- トポロジカル光回路の作製手法の検討
- 実施機関:
- 東京科学大学(旧東京工業大学)
- 登録日:
- 2025.7.10
- ページビュー:
- 370
- ダウンロード数:
- 0
ライセンスレベルの説明
ライセンスレベル
Level1:Open
Level2:Sample
Level3:License
Level4:Restricted
Level5:Confidential
Si基板上のEBレジスト(ZEP520A)のコントラストカーブ- 装置・プロセス:
-
NM-635:電子ビーム描画装置 [ELS-BODEN100]
- ファイル数:
- 115
- ファイルサイズ:
- 28.69MB
- 課題番号:
- JPMXP1225NM2007
- 課題名:
- Si基板上EBレジスト(ZEP520A)のコントラストカーブの現像条件依存性
- 実施機関:
- 物質・材料研究機構
- 登録日:
- 2025.8.26
- ページビュー:
- 320
- ダウンロード数:
- 50
ライセンスレベルの説明
ライセンスレベル
Level1:Open
Level2:Sample
Level3:License
Level4:Restricted
Level5:Confidential
ダウンロードの説明
クリックするとファイル群をダウンロードすることができます。
EBレジスト(FEP-171)の断面形状- 装置・プロセス:
-
NM-635:電子ビーム描画装置 [ELS-BODEN100]
- ファイル数:
- 308
- ファイルサイズ:
- 79.11MB
- 課題番号:
- JPMXP1225NM2014
- 課題名:
- EBレジスト(FEP-171)のリソグラフィ特性
- 実施機関:
- 物質・材料研究機構
- 登録日:
- 2025.8.26
- ページビュー:
- 347
- ダウンロード数:
- 20
ライセンスレベルの説明
ライセンスレベル
Level1:Open
Level2:Sample
Level3:License
Level4:Restricted
Level5:Confidential
ダウンロードの説明
クリックするとファイル群をダウンロードすることができます。
SiO2エッチングのCHF3ガス流量と圧力の関係(Spica)- 装置・プロセス:
-
NM-662:低ダメージ精密エッチング装置 [Spica]
- ファイル数:
- 13
- ファイルサイズ:
- 211.39MB
- 課題番号:
- JPMXP1225NM2012
- 課題名:
- SiO2エッチングのCHF3ガス流量と圧力の関係(Spica)
- 実施機関:
- 物質・材料研究機構
- 登録日:
- 2025.5.29
- ページビュー:
- 342
- ダウンロード数:
- 24
ライセンスレベルの説明
ライセンスレベル
Level1:Open
Level2:Sample
Level3:License
Level4:Restricted
Level5:Confidential
ダウンロードの説明
クリックするとファイル群をダウンロードすることができます。
NR-104_日本電子製ESR(JES-FA100N)を利用した装置評価用試料であるTEMPOLを測定した例- 装置・プロセス:
-
NR-104:電子スピン共鳴装置
- ファイル数:
- 5
- ファイルサイズ:
- 988.16KB
- 課題番号:
- JPMXP1225NR9001
- 課題名:
- マテリアル研究プラットフォームセンターにおける機器・分析事例データ
- 実施機関:
- 奈良先端科学技術大学院大学
- 登録日:
- 2025.7.2
- ページビュー:
- 269
- ダウンロード数:
- 96
ライセンスレベルの説明
ライセンスレベル
Level1:Open
Level2:Sample
Level3:License
Level4:Restricted
Level5:Confidential
ダウンロードの説明
クリックするとファイル群をダウンロードすることができます。
Zn添加CuInS2ナノ粒子の可視紫外吸収スペクトル- 装置・プロセス:
-
NI-006:UV/VIS/NIR分光光度計
- ファイル数:
- 17
- ファイルサイズ:
- 3.82MB
- 課題番号:
- JPMXP1222NI0601
- 課題名:
- Zn添加CuInS2ナノ粒子の合成と光学特性評価
- 実施機関:
- 名古屋工業大学
- 登録日:
- 2025.5.29
- ページビュー:
- 365
- ダウンロード数:
- 0
ライセンスレベルの説明
ライセンスレベル
Level1:Open
Level2:Sample
Level3:License
Level4:Restricted
Level5:Confidential
熱電変換材料開発のためのFe基ホイスラー化合物の顕微蛍光X線分析装置による組成分析- 装置・プロセス:
-
NI-012:顕微蛍光X線分析装置
- ファイル数:
- 30
- ファイルサイズ:
- 7.96MB
- 課題番号:
- JPMXP1222NI1202
- 課題名:
- 新規熱電変換材料開発のためのFe基ホイスラー化合物の組成分析
- 実施機関:
- 名古屋工業大学
- 登録日:
- 2025.9.29
- ページビュー:
- 363
- ダウンロード数:
- 1
ライセンスレベルの説明
ライセンスレベル
Level1:Open
Level2:Sample
Level3:License
Level4:Restricted
Level5:Confidential
真空蒸着により作製したコアシェル型ナノ粒子のTEM/STEM観察- 装置・プロセス:
-
OS-003:200kV原子分解能走査透過分析電子顕微鏡
- ファイル数:
- 90
- ファイルサイズ:
- 785.79MB
- 課題番号:
- JPMXP1222OS0000
- 課題名:
- 金属無機材料の組織と組成に着目した微細構造解析
- 実施機関:
- 大阪大学
- 登録日:
- 2023.11.30
- ページビュー:
- 364
- ダウンロード数:
- 0
ライセンスレベルの説明
ライセンスレベル
Level1:Open
Level2:Sample
Level3:License
Level4:Restricted
Level5:Confidential
- AFM液中電気化学電極評価
- 装置・プロセス:
-
MS-202:低真空分析走査電子顕微鏡
- ファイル数:
- 7
- ファイルサイズ:
- 1.15MB
- 課題番号:
- JPMXP1222MS5027
- 課題名:
- AFM液中電気化学電極評価
- 実施機関:
- 自然科学研究機構
- 登録日:
- 2024.10.30
- ページビュー:
- 363
- ダウンロード数:
- 0
ライセンスレベルの説明
ライセンスレベル
Level1:Open
Level2:Sample
Level3:License
Level4:Restricted
Level5:Confidential
Fe/FeOOH複合膜のTEM観察(A-22-TU-0080 ARM_01)- 装置・プロセス:
-
TU-504:超高分解能透過電子顕微鏡
- ファイル数:
- 66
- ファイルサイズ:
- 434.92MB
- 課題番号:
- JPMXP1222TU0197
- 課題名:
- 複合皮膜の構造評価
- 実施機関:
- 東北大学
- 登録日:
- 2025.7.15
- ページビュー:
- 362
- ダウンロード数:
- 0
ライセンスレベルの説明
ライセンスレベル
Level1:Open
Level2:Sample
Level3:License
Level4:Restricted
Level5:Confidential
200kV電界放出形透過電子顕微鏡による金ナノ粒子標準試料観察- 装置・プロセス:
-
NM-503:200kV電界放出形透過電子顕微鏡(JEM-2100F1)
- ファイル数:
- 48
- ファイルサイズ:
- 548.58MB
- 課題番号:
- JPMXP1223NM2102
- 課題名:
- ナノ構造評価技術開発
- 実施機関:
- 物質・材料研究機構
- 登録日:
- 2024.11.20
- ページビュー:
- 335
- ダウンロード数:
- 26
ライセンスレベルの説明
ライセンスレベル
Level1:Open
Level2:Sample
Level3:License
Level4:Restricted
Level5:Confidential
ダウンロードの説明
クリックするとファイル群をダウンロードすることができます。
Delta sleep-inducing peptide(DSIP)の分子構造解析- 装置・プロセス:
-
JI-001:核磁気共鳴スペクトル測定装置 800MHz
- ファイル数:
- 9
- ファイルサイズ:
- 6.2MB
- 課題番号:
- JPMXP1222JI1003
- 課題名:
- Delta sleep-inducing peptide(DSIP)の分子構造解析
- 実施機関:
- 北陸先端科学技術大学院大学
- 登録日:
- 2023.10.27
- ページビュー:
- 360
- ダウンロード数:
- 1
ライセンスレベルの説明
ライセンスレベル
Level1:Open
Level2:Sample
Level3:License
Level4:Restricted
Level5:Confidential
水平櫛歯電極型アクチュエータの試作- 装置・プロセス:
-
TT-011:Deep Reactive Ion Etching装置(Boschプロセス)
TT-018:非接触3次元表面形状・粗さ測定機
- ファイル数:
- 13
- ファイルサイズ:
- 2.71MB
- 課題番号:
- JPMXP1222TT0018
- 課題名:
- 水平櫛歯電極型アクチュエータの試作
- 実施機関:
- 豊田工業大学
- 登録日:
- 2023.10.27
- ページビュー:
- 360
- ダウンロード数:
- 0
ライセンスレベルの説明
ライセンスレベル
Level1:Open
Level2:Sample
Level3:License
Level4:Restricted
Level5:Confidential
高アスペクトSiトレンチパターンにおけるエッチング条件に対するテーパ角度の検討- 装置・プロセス:
-
KT-301:超高分解能電界放出形走査電子顕微鏡
KT-104:高速マスクレス露光装置
KT-235:深堀りドライエッチング装置(2)
- ファイル数:
- 17
- ファイルサイズ:
- 2.71MB
- 課題番号:
- JPMXP1222KT1294
- 課題名:
- ドライエッチングによる微細モールド作成技術の開発
- 実施機関:
- 京都大学
- 登録日:
- 2025.6.30
- ページビュー:
- 359
- ダウンロード数:
- 0
ライセンスレベルの説明
ライセンスレベル
Level1:Open
Level2:Sample
Level3:License
Level4:Restricted
Level5:Confidential