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カーボンの薄片上の金属微粒子の試料作製と観察/Sample Preparation and TEM Observation of Metal Nanoparticles on Carbon Thin Films- 課題名：
- カーボンの薄片上の金属微粒子の試料作製と観察
- 課題番号：
- JPMXP1225NU0036
- ファイル数：
- 79
- 実施機関：
- 名古屋大学
- 装置・プロセス：
-
NU-103：高分解能透過電子顕微鏡システム
- 登録日：
- 2025.8.26
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- ICP-RIE_Spicaにおけるガス流量及び圧力とエッチング形状に関する実験 [プロセスデータ編]
- 課題名：
- ICP-RIE_Spicaにおけるガス流量及び圧力とエッチング形状に関する実験
- 課題番号：
- JPMXP1225NM2032
- ファイル数：
- 50
- 実施機関：
- 物質・材料研究機構
- 装置・プロセス：
-
NM-662：低ダメージ精密エッチング装置 [Spica]
- 登録日：
- 2025.10.2
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- スパッタ成膜したAl膜の結晶構造のXRD評価
- 課題名：
- 名古屋大学加工FSデータ
- 課題番号：
- JPMXP1223NU5201
- ファイル数：
- 18
- 実施機関：
- 名古屋大学
- 装置・プロセス：
-
NU-203：薄膜X線回折装置
NU-205：3元マグネトロンスパッタ装置
- 登録日：
- 2023.10.27
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- レジスト膜厚の温度・粘度依存性
- 課題名：
- 膜厚制御に向けたSU-8フォトレジストの温度・粘度・膜厚の計測
- 課題番号：
- JPMXP1224GA2009
- ファイル数：
- 72
- 実施機関：
- 香川大学
- 装置・プロセス：
-
GA-003：スピンコータ－
GA-016：光干渉式膜厚測定装置
- 登録日：
- 2025.4.16
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- オックスフォードインスツルメント社製ALD装置〔FlexAL〕を用いたALD成膜レシピとその膜特性（2022年度）
- 課題名：
- ALD成膜基礎データ(2022年)
- 課題番号：
- JPMXP1222AT0458
- ファイル数：
- 41
- 実施機関：
- 産業技術総合研究所
- 装置・プロセス：
-
AT-102：原子層堆積装置_3〔FlexAL〕
- 登録日：
- 2025.10.21
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- Arイオンビームミリング法によるピラー加工形状の基板傾斜角による違いと時間変化
- 課題名：
- SiO2のドライエッチング
- 課題番号：
- JPMXP1225NM2010
- ファイル数：
- 88
- 実施機関：
- 物質・材料研究機構
- 装置・プロセス：
-
NM-669：イオンビームミリング複合装置 [16IBE-NIMS_SS]
- 登録日：
- 2025.8.27
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- OLED材料の大気中光電子収量分光データセット/Ambient Photoelectron Yield Spectroscopy Dataset of OLED Materials
- 課題名：
- 大気中光電子収量分光の有機半導体の標準データ
- 課題番号：
- JPMXP1225NM2501
- ファイル数：
- 243
- 実施機関：
- 物質・材料研究機構
- 装置・プロセス：
-
NMZ-001 大気中光電子収量分光（PYS)
- 登録日：
- 2025.8.7
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- X線回折装置(XRD)の加工データ集（ALD_ZrO2薄膜_温度依存性）（2023年度）
- 課題名：
- AIST NPF加工データ集（2023年）
- 課題番号：
- JPMXP1223AT0099
- ファイル数：
- 10
- 実施機関：
- 産業技術総合研究所
- 装置・プロセス：
-
AT-070：X線回折装置(XRD)
- 登録日：
- 2025.10.21
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- スパッタ成膜したAl膜の表面形状のAFM評価
- 課題名：
- 名古屋大学加工FSデータ
- 課題番号：
- JPMXP1223NU5201
- ファイル数：
- 42
- 実施機関：
- 名古屋大学
- 装置・プロセス：
-
NU-205：3元マグネトロンスパッタ装置
NU-204：原子間力顕微鏡
- 登録日：
- 2024.10.29
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- 電極材料の微構造観察
- 課題名：
- 電極材料の評価
- 課題番号：
- JPMXP1224UT9001
- ファイル数：
- 46
- 実施機関：
- 東京大学
- 装置・プロセス：
-
UT-101：低損傷走査型分析電子顕微鏡
- 登録日：
- 2025.3.12
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- サムコ社製ALD装置〔AD-100LP〕を用いたALD成膜レシピとその膜特性
- 課題名：
- ALD成膜基礎データ(2022年)
- 課題番号：
- JPMXP1222AT0458
- ファイル数：
- 65
- 実施機関：
- 産業技術総合研究所
- 装置・プロセス：
-
AT-099：サムコ原子層堆積装置_2[AD-100LP]
- 登録日：
- 2025.10.14
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- ICP-RIEによるSiO2エッチングのRF電源出力依存性
- 課題名：
- CHF3ガスによるSiO2エッチングのRF電源出力依存性
- 課題番号：
- JPMXP1224NM2001
- ファイル数：
- 47
- 実施機関：
- 物質・材料研究機構
- 装置・プロセス：
-
NM-662：低ダメージ精密エッチング装置 [Spica]
NM-621：FE-SEM [S-4800]
- 登録日：
- 2024.10.31
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- X線光電子分光を用いた単結晶モデル光触媒のX線光電子分光による表面組成分析の研究
- 課題名：
- 単結晶モデル光触媒のX線光電子分光による表面組成分析
- 課題番号：
- JPMXP1223MS5043
- ファイル数：
- 59
- 実施機関：
- 自然科学研究機構
- 装置・プロセス：
-
MS-213：X線光電子分光
- 登録日：
- 2025.11.28
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- Monochromated EELS of NiO
- 課題名：
- Monochromated EELS of NiO
- 課題番号：
- JPMXP1222NM1004
- ファイル数：
- 12
- 実施機関：
- 物質・材料研究機構
- 装置・プロセス：
-
NM-402：単原子分析電子顕微鏡
- 登録日：
- 2023.10.27
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- Al膜のスパッタ成膜
- 課題名：
- 名古屋大学加工FSデータ
- 課題番号：
- JPMXP1223NU5201
- ファイル数：
- 18
- 実施機関：
- 名古屋大学
- 装置・プロセス：
-
NU-205：3元マグネトロンスパッタ装置
- 登録日：
- 2024.10.29
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- プラズマCVD薄膜堆積装置（SiN）の加工データ集（SiN膜 LAL200ウェットエッチング）（2023年度）
- 課題名：
- AIST NPF加工データ集（2023年）
- 課題番号：
- JPMXP1223AT0099
- ファイル数：
- 24
- 実施機関：
- 産業技術総合研究所
- 装置・プロセス：
-
AT-081：プラズマCVD薄膜堆積装置（SiN）
- 登録日：
- 2025.10.21
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- 蒸気二流体によるパラジウム(Pd)薄膜のリフトオフ
- 課題名：
- 蒸気二流体によるパラジウム(Pd)薄膜のリフトオフ
- 課題番号：
- JPMXP1225NM2013
- ファイル数：
- 409
- 実施機関：
- 物質・材料研究機構
- 装置・プロセス：
-
NM-668：蒸気二流体洗浄装置 [SSM101]
- 登録日：
- 2025.11.6
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- OS-104：ELS-BODEN:細線描画時の最適Doseの検討
- 課題名：
- 阪大 産研 スタッフデータ 2025
- 課題番号：
- JPMXP1225OS9001
- ファイル数：
- 18
- 実施機関：
- 大阪大学
- 装置・プロセス：
-
OS-104：自動搬送電子ビーム描画装置
- 登録日：
- 2025.10.20
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- Ｓｉ深堀エッチング装置〔PlasmaPro_100〕の加工データ集（熱酸化SiO2膜 エッチング条件だし）（2023年度）
- 課題名：
- AIST NPF加工データ集（2023年）
- 課題番号：
- JPMXP1223AT0099
- ファイル数：
- 98
- 実施機関：
- 産業技術総合研究所
- 装置・プロセス：
-
AT-101：Ｓｉ深堀エッチング装置〔PlasmaPro_100〕
- 登録日：
- 2025.10.21
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- PHI-QuanteraⅡの日常点検データ（2023年度）
- 課題名：
- 光電子分光装置の日常点検データ（2023年度）
- 課題番号：
- JPMXP1223AT0423
- ファイル数：
- 3678
- 実施機関：
- 産業技術総合研究所
- 装置・プロセス：
-
AT-103：原子層堆積装置_3付帯ＸＰＳ装置（アルバック・ファイ）
- 登録日：
- 2025.10.14
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