人気のデータセット（全期間）
表示件数
人気ランキング表示順
カーボンの薄片上の金属微粒子の試料作製と観察/Sample Preparation and TEM Observation of Metal Nanoparticles on Carbon Thin Films- 課題名：
- カーボンの薄片上の金属微粒子の試料作製と観察
- 課題番号：
- JPMXP1225NU0036
- ファイル数：
- 79
- 実施機関：
- 名古屋大学
- 装置・プロセス：
-
NU-103：高分解能透過電子顕微鏡システム
- 登録日：
- 2025.8.26
ライセンスレベルの説明
ライセンスレベル
Level1：Open
Level2：Sample
Level3：License
Level4：Restricted
Level5：Confidential
ダウンロードの説明
クリックするとファイル群をダウンロードすることができます。
- ICP-RIE_Spicaにおけるガス流量及び圧力とエッチング形状に関する実験 [プロセスデータ編]
- 課題名：
- ICP-RIE_Spicaにおけるガス流量及び圧力とエッチング形状に関する実験
- 課題番号：
- JPMXP1225NM2032
- ファイル数：
- 50
- 実施機関：
- 物質・材料研究機構
- 装置・プロセス：
-
NM-662：低ダメージ精密エッチング装置 [Spica]
- 登録日：
- 2025.10.2
ライセンスレベルの説明
ライセンスレベル
Level1：Open
Level2：Sample
Level3：License
Level4：Restricted
Level5：Confidential
ダウンロードの説明
クリックするとファイル群をダウンロードすることができます。
- OLED材料の大気中光電子収量分光データセット/Ambient Photoelectron Yield Spectroscopy Dataset of OLED Materials
- 課題名：
- 大気中光電子収量分光の有機半導体の標準データ
- 課題番号：
- JPMXP1225NM2501
- ファイル数：
- 243
- 実施機関：
- 物質・材料研究機構
- 装置・プロセス：
-
NMZ-001 大気中光電子収量分光（PYS)
- 登録日：
- 2025.8.7
ライセンスレベルの説明
ライセンスレベル
Level1：Open
Level2：Sample
Level3：License
Level4：Restricted
Level5：Confidential
ダウンロードの説明
クリックするとファイル群をダウンロードすることができます。
- Arイオンビームミリング法によるピラー加工形状の基板傾斜角による違いと時間変化
- 課題名：
- SiO2のドライエッチング
- 課題番号：
- JPMXP1225NM2010
- ファイル数：
- 88
- 実施機関：
- 物質・材料研究機構
- 装置・プロセス：
-
NM-669：イオンビームミリング複合装置 [16IBE-NIMS_SS]
- 登録日：
- 2025.8.27
ライセンスレベルの説明
ライセンスレベル
Level1：Open
Level2：Sample
Level3：License
Level4：Restricted
Level5：Confidential
ダウンロードの説明
クリックするとファイル群をダウンロードすることができます。
- レジスト膜厚の温度・粘度依存性
- 課題名：
- 膜厚制御に向けたSU-8フォトレジストの温度・粘度・膜厚の計測
- 課題番号：
- JPMXP1224GA2009
- ファイル数：
- 72
- 実施機関：
- 香川大学
- 装置・プロセス：
-
GA-003：スピンコータ－
GA-016：光干渉式膜厚測定装置
- 登録日：
- 2025.4.16
ライセンスレベルの説明
ライセンスレベル
Level1：Open
Level2：Sample
Level3：License
Level4：Restricted
Level5：Confidential
ダウンロードの説明
クリックするとファイル群をダウンロードすることができます。
- スパッタ成膜したAl膜の結晶構造のXRD評価
- 課題名：
- 名古屋大学加工FSデータ
- 課題番号：
- JPMXP1223NU5201
- ファイル数：
- 18
- 実施機関：
- 名古屋大学
- 装置・プロセス：
-
NU-203：薄膜X線回折装置
NU-205：3元マグネトロンスパッタ装置
- 登録日：
- 2023.10.27
ライセンスレベルの説明
ライセンスレベル
Level1：Open
Level2：Sample
Level3：License
Level4：Restricted
Level5：Confidential
ダウンロードの説明
クリックするとファイル群をダウンロードすることができます。
- オックスフォードインスツルメント社製ALD装置〔FlexAL〕を用いたALD成膜レシピとその膜特性（2022年度）
- 課題名：
- ALD成膜基礎データ(2022年)
- 課題番号：
- JPMXP1222AT0458
- ファイル数：
- 41
- 実施機関：
- 産業技術総合研究所
- 装置・プロセス：
-
AT-102：原子層堆積装置_3〔FlexAL〕
- 登録日：
- 2025.10.21
ライセンスレベルの説明
ライセンスレベル
Level1：Open
Level2：Sample
Level3：License
Level4：Restricted
Level5：Confidential
ダウンロードの説明
クリックするとファイル群をダウンロードすることができます。
- デュアルビームFIB-SEM加工装置(Quanta)による熱電材料中のナノ構造組織の解析_β-FeSi2の加工
- 課題名：
- 機能性向上を目指した熱電材料中のナノ構造組織の解析
- 課題番号：
- JPMXP1222KU0023
- ファイル数：
- 40
- 実施機関：
- 九州大学
- 装置・プロセス：
-
KU-005：デュアルビームFIB-SEM加工装置
- 登録日：
- 2025.10.1
ライセンスレベルの説明
ライセンスレベル
Level1：Open
Level2：Sample
Level3：License
Level4：Restricted
Level5：Confidential
- ICP-RIEによるSiO2エッチングのRF電源出力依存性
- 課題名：
- CHF3ガスによるSiO2エッチングのRF電源出力依存性
- 課題番号：
- JPMXP1224NM2001
- ファイル数：
- 47
- 実施機関：
- 物質・材料研究機構
- 装置・プロセス：
-
NM-662：低ダメージ精密エッチング装置 [Spica]
NM-621：FE-SEM [S-4800]
- 登録日：
- 2024.10.31
ライセンスレベルの説明
ライセンスレベル
Level1：Open
Level2：Sample
Level3：License
Level4：Restricted
Level5：Confidential
ダウンロードの説明
クリックするとファイル群をダウンロードすることができます。
- 蒸気二流体によるパラジウム(Pd)薄膜のリフトオフ
- 課題名：
- 蒸気二流体によるパラジウム(Pd)薄膜のリフトオフ
- 課題番号：
- JPMXP1225NM2013
- ファイル数：
- 409
- 実施機関：
- 物質・材料研究機構
- 装置・プロセス：
-
NM-668：蒸気二流体洗浄装置 [SSM101]
- 登録日：
- 2025.11.6
ライセンスレベルの説明
ライセンスレベル
Level1：Open
Level2：Sample
Level3：License
Level4：Restricted
Level5：Confidential
ダウンロードの説明
クリックするとファイル群をダウンロードすることができます。
- 高分子表面のTOF-SIMS測定
- 課題名：
- 高分子表面のTOF-SIMS測定
- 課題番号：
- JPMXP1222NI1101
- ファイル数：
- 27
- 実施機関：
- 名古屋工業大学
- 装置・プロセス：
-
NI-011：飛行時間型二次イオン質量分析装置
- 登録日：
- 2025.9.29
ライセンスレベルの説明
ライセンスレベル
Level1：Open
Level2：Sample
Level3：License
Level4：Restricted
Level5：Confidential
- フラーレン系材料の大気中光電子収量分光データセット/Ambient Photoelectron Yield Spectroscopy Dataset of Fullerene-based Materials
- 課題名：
- 大気中光電子収量分光の有機半導体の標準データ
- 課題番号：
- JPMXP1225NM2501
- ファイル数：
- 45
- 実施機関：
- 物質・材料研究機構
- 装置・プロセス：
-
NMZ-001 大気中光電子収量分光（PYS)
- 登録日：
- 2025.8.6
ライセンスレベルの説明
ライセンスレベル
Level1：Open
Level2：Sample
Level3：License
Level4：Restricted
Level5：Confidential
ダウンロードの説明
クリックするとファイル群をダウンロードすることができます。
- X線回折装置(XRD)の加工データ集（ALD_ZrO2薄膜_温度依存性）（2023年度）
- 課題名：
- AIST NPF加工データ集（2023年）
- 課題番号：
- JPMXP1223AT0099
- ファイル数：
- 10
- 実施機関：
- 産業技術総合研究所
- 装置・プロセス：
-
AT-070：X線回折装置(XRD)
- 登録日：
- 2025.10.21
ライセンスレベルの説明
ライセンスレベル
Level1：Open
Level2：Sample
Level3：License
Level4：Restricted
Level5：Confidential
ダウンロードの説明
クリックするとファイル群をダウンロードすることができます。
- スパッタ成膜したAl膜の表面形状のAFM評価
- 課題名：
- 名古屋大学加工FSデータ
- 課題番号：
- JPMXP1223NU5201
- ファイル数：
- 42
- 実施機関：
- 名古屋大学
- 装置・プロセス：
-
NU-205：3元マグネトロンスパッタ装置
NU-204：原子間力顕微鏡
- 登録日：
- 2024.10.29
ライセンスレベルの説明
ライセンスレベル
Level1：Open
Level2：Sample
Level3：License
Level4：Restricted
Level5：Confidential
ダウンロードの説明
クリックするとファイル群をダウンロードすることができます。
- PHI-QuanteraⅡの日常点検データ（2023年度）
- 課題名：
- 光電子分光装置の日常点検データ（2023年度）
- 課題番号：
- JPMXP1223AT0423
- ファイル数：
- 3678
- 実施機関：
- 産業技術総合研究所
- 装置・プロセス：
-
AT-103：原子層堆積装置_3付帯ＸＰＳ装置（アルバック・ファイ）
- 登録日：
- 2025.10.14
ライセンスレベルの説明
ライセンスレベル
Level1：Open
Level2：Sample
Level3：License
Level4：Restricted
Level5：Confidential
ダウンロードの説明
クリックするとファイル群をダウンロードすることができます。
- 熱電変換材料開発のためのFe基ホイスラー化合物の顕微蛍光X線分析装置による組成分析
- 課題名：
- 新規熱電変換材料開発のためのFe基ホイスラー化合物の組成分析
- 課題番号：
- JPMXP1222NI1202
- ファイル数：
- 30
- 実施機関：
- 名古屋工業大学
- 装置・プロセス：
-
NI-012：顕微蛍光X線分析装置
- 登録日：
- 2025.9.29
ライセンスレベルの説明
ライセンスレベル
Level1：Open
Level2：Sample
Level3：License
Level4：Restricted
Level5：Confidential
- サムコ社製ALD装置〔AD-100LP〕を用いたALD成膜レシピとその膜特性
- 課題名：
- ALD成膜基礎データ(2022年)
- 課題番号：
- JPMXP1222AT0458
- ファイル数：
- 65
- 実施機関：
- 産業技術総合研究所
- 装置・プロセス：
-
AT-099：サムコ原子層堆積装置_2[AD-100LP]
- 登録日：
- 2025.10.14
ライセンスレベルの説明
ライセンスレベル
Level1：Open
Level2：Sample
Level3：License
Level4：Restricted
Level5：Confidential
ダウンロードの説明
クリックするとファイル群をダウンロードすることができます。
- プラズマCVD薄膜堆積装置（SiN）の加工データ集（SiN膜 LAL200ウェットエッチング）（2023年度）
- 課題名：
- AIST NPF加工データ集（2023年）
- 課題番号：
- JPMXP1223AT0099
- ファイル数：
- 24
- 実施機関：
- 産業技術総合研究所
- 装置・プロセス：
-
AT-081：プラズマCVD薄膜堆積装置（SiN）
- 登録日：
- 2025.10.21
ライセンスレベルの説明
ライセンスレベル
Level1：Open
Level2：Sample
Level3：License
Level4：Restricted
Level5：Confidential
ダウンロードの説明
クリックするとファイル群をダウンロードすることができます。
- ウェアラブルデバイス向け伸縮性電極の作製
- 課題名：
- ウェアラブルデバイス向け伸縮性電極の作製
- 課題番号：
- JPMXP1222UT1201
- ファイル数：
- 3
- 実施機関：
- 東京大学
- 装置・プロセス：
-
UT-913：UVレーザープリント基板加工装置
- 登録日：
- 2025.8.29
ライセンスレベルの説明
ライセンスレベル
Level1：Open
Level2：Sample
Level3：License
Level4：Restricted
Level5：Confidential
- Al膜のスパッタ成膜
- 課題名：
- 名古屋大学加工FSデータ
- 課題番号：
- JPMXP1223NU5201
- ファイル数：
- 18
- 実施機関：
- 名古屋大学
- 装置・プロセス：
-
NU-205：3元マグネトロンスパッタ装置
- 登録日：
- 2024.10.29
ライセンスレベルの説明
ライセンスレベル
Level1：Open
Level2：Sample
Level3：License
Level4：Restricted
Level5：Confidential
ダウンロードの説明
クリックするとファイル群をダウンロードすることができます。