データセット名：Al膜のスパッタ成膜
課題名：名古屋大学加工FSデータ
データセット登録者（所属機関）：加藤剛志（名古屋大学）
- 課題番号：
- JPMXP1223NU5201
- 実施機関：
- 名古屋大学
要約
スパッタ成膜では、ターゲットからスパッタされた粒子は基板に付着するまでに雰囲気希ガスに衝突し、そのエネルギーを失う。スパッタ粒子の平均自由行程は雰囲気ガスで変化し、成膜圧力0.5 Paで10 mm，2 Paで3 mm程度である。今回成膜に用いた3元マグネトロンスパッタ装置（島津製作所製、HSR-522、NU-205）はターゲット−基板間距離が110 mmであり、0.5 Paでは10回程度、2 Paでは30回程度衝突後、基板に入射する。このため、成膜圧力により、作成される膜の微細構造（結晶粒径、表面平坦性）が変化する。ここでは、3元マグネトロンスパッタ装置を用い、計6種類のAl薄膜を作製した。Arガス圧を0.5、1、2Pa、Al膜厚を100、200、400、600nmと変化させながら成膜したものである。結晶構造、表面構造はそれぞれ、データセット「スパッタ成膜したAl膜の結晶構造のXRD評価」、「スパッタ成膜したAl膜の表面形状のAFM評価」にまとめている。
キーワード・タグ
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データメトリックス
- ページビュー：
- 86
- ダウンロード数：
- 42
データインデックス
- 登録日：
- 2024.10.29
- エンバーゴ解除日：
- 2023.11.01
- データセットID：
- b322b260-80b1-42ca-973f-fa3319f744d7
- データタイル数：
- 6
- ファイル数：
- 18
- ファイルサイズ：
- 293.48KB
- ライセンス：
-
