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データセット

データセット名:Si深堀エッチング装置〔PlasmaPro_100〕の加工データ集(熱酸化SiO2膜 エッチング条件だし)(2023年度)

課題名:AIST NPF加工データ集(2023年)

データセット登録者(所属機関):ARIMOTO, Hiroshi (産業技術総合研究所)

課題番号:
JPMXP1223AT0099
実施機関:
産業技術総合研究所

要約

国立研究開発法人 産業技術総合研究所 ナノプロセシング施設(Nano-Processing Facility:NPF)では、ナノエレクトロニクス等の研究開発に必要不可欠な、微細加工、実装、計測・評価、デバイス試作のための先端機器を、産学官の研究者及び技術者に提供しています。NPFに設置されているSi深堀エッチング装置〔PlasmaPro_100〕を用いて、2023年度にスタッフデータとして取得した熱酸化SiO2膜のエッチング条件だしに関する検証データを紹介します。

SiO2 Etching_Run13_01.jpeg
SiO2 Etching_Run13_02.jpeg

キーワード・タグ

重要技術領域(主):
重要技術領域(副):
横断技術領域:
マテリアルインデックス:
キーワードタグ:

データメトリックス

ページビュー:
229
ダウンロード数:
44

データインデックス

https://doi.org/10.71947/arim.jpmxp1223at0099-4
登録日:
2025.10.21
エンバーゴ解除日:
2023.04.30
データセットID:
0cdd03f4-837f-4ed9-808b-db9a66eb4d2d
データタイル数:
16
ファイル数:
98
ファイルサイズ:
3.79MB
ライセンス:

成果発表・成果利用