データセット名：プラズマCVD薄膜堆積装置（SiN）の加工データ集（SiN膜 LAL200ウェットエッチング）（2023年度）
課題名：AIST NPF加工データ集（2023年）
データセット登録者（所属機関）：ARIMOTO, Hiroshi （産業技術総合研究所）
- 課題番号：
- JPMXP1223AT0099
- 実施機関：
- 産業技術総合研究所
要約
国立研究開発法人 産業技術総合研究所 ナノプロセシング施設（Nano-Processing Facility：NPF）では、ナノエレクトロニクス等の研究開発に必要不可欠な、微細加工、実装、計測・評価、デバイス試作のための先端機器を、産学官の研究者及び技術者に提供しています。NPFに設置されているプラズマCVD薄膜堆積装置（SiN）を用いて、2023年度にスタッフデータとして取得した200℃および300℃標準レシピで作製したSiN膜のLAL200ウェットエッチング耐性に関する検証データを紹介します。
キーワード・タグ
- 重要技術領域（主）：
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データメトリックス
- ページビュー：
- 101
- ダウンロード数：
- 26
データインデックス
- 登録日：
- 2025.10.21
- エンバーゴ解除日：
- 2023.04.30
- データセットID：
- 3abb3a63-b50b-4798-af8c-2c4b5ee27dff
- データタイル数：
- 2
- ファイル数：
- 24
- ファイルサイズ：
- 3.23MB
- ライセンス：
-
