データセット名：フォトレジスト（TSMR-V90_27cp）のHMDS処理_PEB処理の違い比較
課題名：各種フォトレジストの特性評価（2025年度実習）
データセット登録者（所属機関）：TOTSU, Kentaro（東北大学）
- 課題番号：
- JPMXP1225TU5012
- 実施機関：
- 東北大学
要約
フォトレジスト（TSMR-V90_27cp、ポジ型レジスト）を用いて、HMDS処理の有無、PEB処理の有無による現像後の仕上がりの違いを比較した。 主回転数4000rpm, 20秒で塗布を行い、干渉型膜厚計を用いてソフトベーク後の膜厚及び現像後の膜厚を測定した。Tencor（段差計）を用いて現像後の膜厚を測定した。結果として、HMDS処理無でパターン剥がれが発生し、かつPEB無ではほとんどのレジストが剥離した。膜減りレートはPEB有の場合に約23nm/minであった。
キーワード・タグ
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データメトリックス
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データインデックス
- 登録日：
- 2025.11.12
- エンバーゴ解除日：
- 2025.10.31
- データセットID：
- e8e74f65-7822-47fe-9771-db9f6f5c25e2
- データタイル数：
- 5
- ファイル数：
- 26
- ファイルサイズ：
- 1.53MB
- ライセンス：
- ARIMライセンス