データセット名：高速時間応答ポアデバイス加工：OS-115RFスパッタ成膜装置：Ti、Au、Cr/Si
課題名：高感度ウイルスナノセンサの開発
データセット登録者（所属機関）：TANAKA, Hiroyuki（大阪大学）
- 課題番号：
- JPMXP1223OS1006
- 実施機関：
- 大阪大学
要約
ナノポアセンサの時間応答性を向上させる目的で、ナノポアチップをポリイミド薄膜でコーティングしていた。しかし、ポリイミドは撥水性であるため、小さなナノポアになると使用時に電解質液がナノポアに入らないことが頻発するという問題があった。そこで、ポリイミドに代えてCVD蒸着によるSiO2薄膜蒸着を試し、ポリイミド被覆の場合と同様の効果が得られるか検証した。
OS-115RFスパッタ成膜装置（絶縁体成膜用）を用いて様々なデバイス（シリコン、QuarzGlassなど）にスパッタ成膜（Cr、Au、Ti）を行った時のログノートより、レシピ情報を収録する。
キーワード・タグ
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データメトリックス
- ページビュー：
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データインデックス
- 登録日：
- 2025.10.17
- エンバーゴ解除日：
- 2025.10.10
- データセットID：
- b00d88ad-6e0d-49ad-a41a-65af38d9a0c3
- データタイル数：
- 100
- ファイル数：
- 400
- ファイルサイズ：
- 3MB
- ライセンス：
- ARIMライセンス