データセット名：Si基板上のEBレジスト(AR-P6200)のコントラストカーブ
課題名：Si基板上EBレジスト(AR-P6200)のコントラストカーブの現像条件依存性
データセット登録者（所属機関）：IKEDA, Naoki （NIMS）
- 課題番号：
- JPMXP1225NM2002
- 実施機関：
- 物質・材料研究機構
要約
パターン面積比1:1のL＆Sパターンを用いて、Si基板上でのEBレジスト(AR-P6200)のコントラストカーブの現像液温度と現像時間による変化を明らかにする。このデータは単にドーズ量設定の目安としてだけでなく、GenISys社製近接効果補正ソフトBEAMERを使用しPEC処理された描画データを用いた際のベースドーズとしてそのまま適用可能である。つまり、レジスト厚、現像温度、現像時間の各条件での最適なベースドーズを知ることが出来る。
キーワード・タグ
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データメトリックス
- ページビュー：
- 139
- ダウンロード数：
- 14
データインデックス
- 登録日：
- 2025.08.26
- エンバーゴ解除日：
- 2024.04.02
- データセットID：
- 12a36f78-80c4-49ab-af48-ef3388de612c
- データタイル数：
- 8
- ファイル数：
- 178
- ファイルサイズ：
- 46.17MB
- ライセンス：
-
